[发明专利]气体混合装置和基板处理装置有效
申请号: | 201710464610.0 | 申请日: | 2017-06-19 |
公开(公告)号: | CN107523805B | 公开(公告)日: | 2019-10-01 |
发明(设计)人: | 山下润 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气体 混合 装置 处理 | ||
1.一种气体混合装置,用于对多种气体进行混合,该气体混合装置的特征在于,具备:
圆筒部,其上表面被封闭;
气体流出路径,其在所述圆筒部的底面的中央部开口并向下方延伸;
多个气体流导向壁,该多个气体流导向壁沿着所述气体流出路径中的靠所述底面的开口缘以在周向上彼此隔着间隔的方式配置并且设置为相对于所述圆筒部的中心呈旋转对称,并朝向所述上表面突出;以及
气体流入部,其设置在所述气体流导向壁与圆筒部的内周面之间,供要进行混合的气体流入,
其中,在所述圆筒部的周向上以顺时针和逆时针中的一方观察时,当将朝向该一方的方向的一侧定义为前方时,所述气体流导向壁随着趋向前方侧而向靠所述圆筒部的中心部的位置屈曲,使得将流入到圆筒部的内周面与气体流导向壁之间的气体沿着该气体流导向壁的外周面导向到所述气体流出路径,由此形成涡流。
2.根据权利要求1所述的气体混合装置,其特征在于,
所述气体流导向壁的外周面的圆弧形状被形成为在俯视时与所述圆筒部的内周面的圆弧形状相比是小径的圆弧形状。
3.根据权利要求1或2所述的气体混合装置,其特征在于,
所述气体流入部构成为气体流入位置与气体流导向壁的前后方向的中央相比靠后方侧。
4.根据权利要求1或2所述的气体混合装置,其特征在于,
所述气体流入部构成为,气体在所述圆筒部内从上表面侧流入所述气体流入部。
5.根据权利要求1或2所述的气体混合装置,其特征在于,
所述气体流导向壁的内周面形成有倾斜面,该倾斜面以随着趋向下方而接近圆筒部的中心部的方式倾斜。
6.根据权利要求1或2所述的气体混合装置,其特征在于,
所述气体流出路径以随着从开口部趋向下方而接近圆筒部的中心部的方式倾斜。
7.根据权利要求1或2所述的气体混合装置,其特征在于,
在彼此相邻的气体流导向壁中,前方侧的气体流导向壁的靠后端的内周面与后方侧的气体流导向壁的靠前端的外周面相对,由该内周面与外周面夹着的空间构成为用于形成涡流的气体流的导向路径。
8.根据权利要求1或2所述的气体混合装置,其特征在于,
所述气体流导向壁的前端侧的内周面为倾斜面,所述气体流导向壁的后端侧的内周面比所述前端侧的内周面直立。
9.根据权利要求1或2所述的气体混合装置,其特征在于,
所述气体流导向壁的配置数量为两个或三个。
10.根据权利要求1或2所述的气体混合装置,其特征在于,
按各气体流导向壁设置所述气体流入部。
11.一种基板处理装置,其特征在于,具备
气体混合装置,彼此不同的处理气体从彼此不同的位置流入到所述气体混合装置中,所述气体混合装置对这些处理气体进行混合;
处理容器,其被供给由所述气体混合装置混合后的处理气体;
载置部,其设置在所述处理容器内,用于载置被所述处理气体进行处理的基板;以及
排气部,其对所述处理容器内进行真空排气,
其中,所述气体混合装置是根据权利要求1至10中的任一项所述的气体混合装置。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的