[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201710466119.1 申请日: 2017-06-19
公开(公告)号: CN107293553B 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 郭玉珍;董学;王海生;吴俊纬;刘英明;丁小梁;曹学友;郑智仁 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/32;H01L21/77
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 罗瑞芝;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,划分为多个像素区,每一所述像素区均设置有像素薄膜晶体管,其特征在于,至少部分所述像素区内设置有压力组件和压力薄膜晶体管,所述压力薄膜晶体管包括第一极、第二极和控制极,所述压力组件与所述压力薄膜晶体管的第一极或控制极连接;

并且,所述像素薄膜晶体管的至少部分层结构与所述压力薄膜晶体管的对应层结构同层设置,所述压力组件包括依次层叠设置的接触电极、压力感测层和偏置电极,所述接触电极与所述压力薄膜晶体管的第一极或控制极连接。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述像素薄膜晶体管的有源层与所述压力薄膜晶体管的有源层同层设置、且具有相同的图形,所述像素薄膜晶体管的第一极、第二极与所述压力薄膜晶体管的第一极、第二极同层设置、且分别具有相同的图形,所述像素薄膜晶体管为顶栅结构,所述压力薄膜晶体管为底栅结构。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述压力组件中,所述接触电极为图案化结构,所述接触电极还共用为所述压力薄膜晶体管的栅极。

4.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,在所述压力薄膜晶体管中还包括遮光金属块,所述遮光金属块与所述像素薄膜晶体管的栅极同层设置,用于避免所述压力薄膜晶体管的有源层受光的遮光金属块。

5.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,在对应着所述像素薄膜晶体管的有源层的区域,所述偏置电极形成开口。

6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述像素薄膜晶体管和所述压力薄膜晶体管具有相同的层结构分布,所述像素薄膜晶体管为底栅结构,所述压力薄膜晶体管为底栅结构;

或者,所述像素薄膜晶体管为顶栅结构,所述压力薄膜晶体管为顶栅结构;

或者,所述像素薄膜晶体管为底栅结构,所述压力薄膜晶体管为顶栅结构;

或者,所述像素薄膜晶体管为顶栅结构,所述压力薄膜晶体管为底栅结构。

7.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述偏置电极和/或所述压力感测层为面状结构,或者为网格状结构。

8.一种显示面板,其特征在于,包括权利要求1-7任一项所述的阵列基板。

9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板包括显示组件,所述显示组件与所述像素薄膜晶体管的第二极连接,所述显示组件和所述压力组件分别位于所述像素薄膜晶体管的有源层的两侧或同侧。

10.根据权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述显示组件至少包括发光层,所述发光层与所述压力感测层同层设置,所述显示组件的阴极共用为所述压力组件的偏置电极。

11.一种阵列基板的制备方法,所述阵列基板划分为多个像素区,所述方法包括在每一所述像素区均设置有像素薄膜晶体管的步骤,其特征在于,还包括在至少部分所述像素区内形成压力传感器的步骤,所述压力传感器包括压力组件和压力薄膜晶体管,所述压力薄膜晶体管包括第一极、第二极和控制极,所述压力组件与所述压力薄膜晶体管的第一极或控制极连接;

其中:所述像素薄膜晶体管的至少部分层结构与所述压力薄膜晶体管的对应层结构同层设置、且在同一构图工艺中形成,

所述压力组件包括依次层叠设置的接触电极、压力感测层和偏置电极,所述接触电极与所述压力薄膜晶体管的第一极或控制极连接。

12.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求8-10任一项所述的显示面板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710466119.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top