[发明专利]液晶显示面板及液晶显示设备在审

专利信息
申请号: 201710471058.8 申请日: 2017-06-20
公开(公告)号: CN107121861A 公开(公告)日: 2017-09-01
发明(设计)人: 安立扬 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司44202 代理人: 郝传鑫,熊永强
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 液晶显示 面板 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及液晶显示技术领域,尤其涉及一种液晶显示面板及液晶显示设备。

背景技术

液晶面板中开口率(Aperture ratio)是液晶面板的一个重要规格,直接决定了面板所能达到的最大亮度。通常在产品设计初期尽量使开口率最大化,因为大的开口率意味着高亮度,在产品规格(亮度规格)确定时,高开口率可以允许背光亮度适当降低,从而减少背光的耗电及靶材消耗,实现成本降低。

因此增大开口率是液晶显示行业的一贯追求,这要求液晶从业者们优化设计,改良结构,提高各层别间设计的合理性,而且要在保证液晶面板暗态显示不漏光的情况下,尽量增大产品的开口率。

发明内容

本发明提供一种阵列基板,规避像素区域的开口率降低问题,提升背光利用率。

本发明所述液晶显示面板,包括阵列基板、彩膜基板及夹持于阵列基板与彩膜基板的液晶层,所述阵列基板包括数条扫描线和与扫描线绝缘的数条数据线,所述扫描线与所述数据线相互垂直排布限定多个呈矩阵排列的像素,每一个像素至少包括一个薄膜晶体管和与所述薄膜晶体管连接的像素电极,每一像素内的所述薄膜晶体管与对应的数据线以及扫描线电性连接;且相邻像素电极之间存在一间隔区,所述薄膜晶体管和所述扫描线位于所述间隔区,所述像素还包括沿着所述扫描线的外围设置的透明走线,所述透明走线输入的电压为所述阵列基板的公共电压。

其中,所述透明走线的边缘在所述扫描线所在平面上的投影与所述扫描线的边缘重合;所述透明走线在所述扫描线所在平面上的投影与所述扫描线不重叠。

其中,所述彩膜基板上对应所述间隔区设有遮光区,所述遮光区包括第一边及与第一边相对的第二边,所述遮光区的第一边位于所述透明走线与一所述像素电极之间或与所述透明走线的边缘重合,所述遮光区的第二边与另一相邻所述像素电极的边缘重合或相距一定距离,所述遮光区覆盖所述扫描线和所述透明走线。

其中,所述彩膜基板上对应所述间隔区设有遮光区,所述遮光区包括第一边及与第一边相对的第二边,所述遮光区的第一边位于所述扫描线边缘,所述遮光区的第二边与所述像素电极邻接或相距一定距离,所述遮光区覆盖所述扫描线和所述薄膜晶体管,所述遮光区对应所述透明走线设有开口以露出所述透明走线。

其中,所述遮光区上对应所述透明走线开设的所述开口的图案与所述透明走线图案相同,所述开口的尺寸与所述透明走线的尺寸相同或略小于所述透明走线。

其中,其特征在于所述透明走线为两条,在所述间隔区内,所述扫描线位于该两条透明走线之间。

其中,所述两条透明走线分别沿着所述扫描线的两侧设置,所述两条透明走线在所述扫描线所在平面上的投影与所述扫描线不重叠,且所述两条透明走线的边缘在所述扫描线所在平面上的投影分别与所述扫描线的两侧边重合。

其中,所述液晶显示面板包括显示区和边缘区,同一间隔区内的两条所述透明走线位于显示区内不相交,且该两条透明走线位于边缘区内相连接。

其中,所述透明走线与所述像素电极位于同一层并通过同一道工艺形成。

本发明所述的液晶显示设备,包括背光模组及所述的液晶显示面板,所述背光模组为所述液晶显示面板提供光源。

本发明所述的液晶显示面板在阵列基板的与遮光区对应的设置TFT位置的间隔区上设置透明走线来包裹间隔区的整条扫描线与扫描线连接,但不覆盖在扫描线上;而将遮光区的边缘(第一边和第二边)内缩至金属(扫面线)的边缘,不遮挡间隔区两侧像素的像素电极,有效增加像素的开口率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明液晶显示面板的侧视图;

图2为本发明实施方式的阵列基板俯视结构示意图;

图3为本发明实施方式的阵列基板的局部示意图,本图属于透视图,遮光区外围用虚线表示。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

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