[发明专利]一种隔离介质板及其工艺方法在审
申请号: | 201710472771.4 | 申请日: | 2017-06-21 |
公开(公告)号: | CN107195591A | 公开(公告)日: | 2017-09-22 |
发明(设计)人: | 丁一;宋宾 | 申请(专利权)人: | 杭州致善微电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L23/13 | 分类号: | H01L23/13;H01L23/15 |
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地址: | 310051 浙江省杭州市滨*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 隔离 介质 及其 工艺 方法 | ||
1.一种隔离介质板,其特征在于,包括隔离介质板基板(1),所述隔离介质板(1)上设有若干个通孔(2),所述通孔(2)的内壁镀金(3),所述通孔(2)内填充满铜或者金(4),所述隔离介质板基板的底面镀金属,所述隔离介质板基板的顶面镀金属。
2.根据权利要求1所述一种隔离介质板,其特征在于,所述通孔(2)呈圆柱形。
3.根据权利要求1所述一种隔离介质板,其特征在于,所述隔离介质板基板的底面镀金或镀铜。
4.根据权利要求1所述氧化铍陶瓷,其特征在于,所述隔离介质板基板的顶面镀金或镀铜。
5.根据权利要求1所述氧化铍陶瓷的工艺方法,其特征在于,包括以下步骤:
a、在隔离介质板基板(1)的上钻通孔(2);
b、通孔(2)的内壁镀金(3);
c、在通孔(2)内填充满铜或者金(4);
d、在隔离介质板基板(1)的底面镀金属;
e:在隔离介质板基板(1)的顶面镀金属。
6.根据权利要求5所述氧化铍陶瓷的工艺方法,其特征在于,所述在氧化铍陶瓷基板(1)的底面镀的金属为金或铜。
7.根据权利要求5所述氧化铍陶瓷的工艺方法,其特征在于,所述在氧化铍陶瓷基板(1)的顶面镀的金属为金或铜。
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