[发明专利]一种低泄漏螺旋槽液膜机械密封端面结构有效

专利信息
申请号: 201710472773.3 申请日: 2017-06-21
公开(公告)号: CN107166036B 公开(公告)日: 2018-09-21
发明(设计)人: 孟祥铠;马学忠;王玉明;梁杨杨;沈明学;彭旭东 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: F16J15/16 分类号: F16J15/16;F16J15/34;F16J15/40
代理公司: 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人: 王利强
地址: 310014 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 泄漏 螺旋 槽液膜 机械 密封 端面 结构
【权利要求书】:

1.一种低泄漏螺旋槽液膜机械密封端面结构,包括机械密封的动环、静环,其特征在于:所述动环或静环端面的一侧为高压侧即上游,所述动环或静环端面的另一侧为低压侧即下游,动环或静环其中之一的端面上设有系列流槽,下游侧设有周向均匀排布的系列反向螺旋槽,中部设有与所述反向螺旋槽贯通的环槽,上游侧设有与所述环槽和介质侧连通的出口,相邻两个所述的出口之间设有系列正向螺旋槽,所述反向螺旋槽与下游侧之间设密封坝,所述环槽与所述正向螺旋槽之间设密封堰。

2.如权利要求1所述的一种低泄漏螺旋槽液膜机械密封端面结构,其特征在于:所述反向螺旋槽在密封运行时槽根处的液膜具有发散的趋势,反向螺旋槽个数为2~10;反向螺旋槽壁线螺旋角为2°~15°;周向槽台宽比为0.5~10;径向槽坝比为0.25~10,反向螺旋槽与密封坝径向宽度为密封面宽度的1/4~2/3,反向螺旋槽深度为1~50μm。

3.如权利要求1或2所述的一种低泄漏螺旋槽液膜机械密封端面结构,其特征在于:所述环槽径向宽度为0.5~3mm;环槽深度为所述反向螺旋槽深度的1~5倍。

4.如权利要求1或2所述的一种低泄漏螺旋槽液膜机械密封端面结构,其特征在于:所述出口在上游侧呈周期分布,周期数为4、6或8,出口壁线为螺旋线或直线,螺旋角或倾角为30°~45°,周向槽宽为1°~10°,出口深度与所述环槽等深。

5.如权利要求1或2所述的一种低泄漏螺旋槽液膜机械密封端面结构,其特征在于:所述正向螺旋槽在密封运行时槽根处的液膜具有收敛的趋势,正向螺旋槽在相邻两出口之间的个数为2~5;正向螺旋槽壁线螺旋角为10°~45°;周向槽台宽比为0.5~3;径向槽坝比为0.25~10,正向螺旋槽与密封堰径向整体宽度为密封面宽度的1/3~2/3,正向螺旋槽深度为1~20μm。

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