[发明专利]一种光扩散片的制备方法在审

专利信息
申请号: 201710474086.5 申请日: 2017-06-21
公开(公告)号: CN107290808A 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 周雷;许昕宇;马小雪;范媛媛;李冠男 申请(专利权)人: 淮阴工学院
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02;G03F7/00
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 代理人: 张华蒙
地址: 223003 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 扩散 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种光扩散片的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:

S1,采用双光束随机干涉曝光方法在光刻胶版上制备随机纳米结构;

S2,将具有随机纳米结构的光刻胶版作为电铸模板进行精密电铸,将随机纳米结构转移到金属镍版;

S3,将金属镍版作为压印模板,通过紫外纳米压印方法或热压印方法压印光扩散片材料,制作出光扩散片。

2.根据权利要求1所述的一种光扩散片的制备方法,其特征在于:步骤S1中,双光束随机干涉曝光方法,包括以下步骤:

1)激光器发出激光光束,激光光束通过分束器(1)分为两路;

2)其中一束激光光束经第一扩束器(4)后,照射在第一毛玻璃(6)上,形成一束随机光束;

3)另一束激光光束依次经过第一平面镜(2)、第二平面镜(3)和第二扩束器(5)后,照射在透明的第二毛玻璃(7)上,形成另一束随机散射光束;

4)两束随机散射光束汇聚于光刻胶版(8)表面,经干涉、显影、烘干后,在光刻胶版(8)表面制备出随机纳米结构。

3.根据权利要求2所述的一种光扩散片的制备方法,其特征在于:所述的随机纳米结构槽深为200nm~500nm。

4.根据权利要求1所述的一种光扩散片的制备方法,其特征在于:步骤S3中,采用紫外纳米压印方法,光扩散片由光扩散片基底(9)、紫外光固化胶(10)、紫外光固化胶结构层(11)构成。

5.根据权利要求1所述的一种光扩散片的制备方法,其特征在于:步骤S3中,采用热压印方法,光扩散片由基底(9)和基底结构层(12)构成;所述的光扩散片由基底(9)和基底结构层(12)材质相同。

6.根据权利要求1-5中任意一项所述的一种光扩散片的制备方法,其特征在于:所述的光扩散片基底(9)的材质为热可塑性高分子材料。

7.根据权利要求6中所述的一种光扩散片的制备方法,其特征在于:所述的光扩散片基底(9)的材质选自聚甲基丙烯酸丁酯、聚氯乙烯、聚碳酸酯中的任意一种。

8.根据权利要求6中所述的一种光扩散片的制备方法,其特征在于:所述的光扩散片基底(9)的厚度为0.1mm~3mm。

9.根据权利要求1-5中任意一项所述的一种光扩散片的制备方法,其特征在于:所述的光扩散片的整体厚度为1mm~5mm。

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