[发明专利]一种构建四阵元立体阵列的方法和装置有效

专利信息
申请号: 201710486540.9 申请日: 2017-06-23
公开(公告)号: CN107229032B 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 尤明懿;陆安南;邱焱 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第三十六研究所
主分类号: G01S3/14 分类号: G01S3/14
代理公司: 北京市隆安律师事务所 11323 代理人: 权鲜枝;吴昊
地址: 314033 *** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 构建 四阵元 立体 阵列 方法 装置
【说明书】:

发明公开了一种构建四阵元立体阵列的方法,其特征在于,方法包括:初步构建四阵元立体阵;根据第四阵元的初始旋转角度和测向模型,获取辐射源波达方向的第一估计值;根据辐射源波达方向的第一估计值和测向误差,获取测向误差最小值时对应的第四阵元的第一旋转角度;再根据第四阵元的第一旋转角度、测向模型和测向误差迭代获取第四阵元的第N旋转角度值,N≥2;判断第N旋转角度值与第N‑1旋转角度的差值是否小于角度差值预设值和/或迭代次数N是否大于迭代次数预设值;若是,则停止迭代,根据所述第N旋转角度构建最终的四阵元立体阵列;若否,则继续迭代获取第N+1旋转角度。通过迭代优化部分阵元的旋转角度,提升辐射源波达方向的估计精度。

技术领域

本发明涉及阵列天线测向技术领域,具体涉及一种构建四阵元立体阵列的方法和装置。

背景技术

阵列天线测向系统是一种重要的被动式测向装备,相对于主动工作的雷达系统,除了具有抗截获、抗干扰等优点外,还具有测向精度高、体积重量小、成本低等优点,近年来受到重视,并已多次应用于星载装备。当前常用的测向阵列天线多为平面阵,即多个阵元处于同一平面。在应用过程中,此类平面阵在阵面法向区域(通常为卫星星下点位置)往往可以得到比较理想的测向精度,但在偏离阵面法向方位较远的区域(通常为较小俯仰角区域)测向精度显著下降。然而,在一些特定场景中,除希望阵面法向位置具有较高测向精度外,在偏离法向方位较远的区域仍希望具有较高的测向精度以满足应用需求。

在辐射源波达方向不确定的情况下,为了满足在较小俯仰角区域测向精度的需求,通常的做法有阵面偏置、加大阵元尺寸、加大基线长度等。其中,阵面偏置就是通过将阵面的安装平面旋转一定角度以满足应用需求,但这种做法是以牺牲原阵面法向区域测向精度为代价的。加大阵元的本质是通过提升接收信号的信噪比,改善相位差测向精度以提升各区域的测向精度,但对于一些低频段的测向阵存在阵元尺寸原本就较大的问题,进一步加大阵元尺寸将会给阵元的安装、布局带来更大的压力。加大基线长度也将有助于各区域测向精度的提升,但无疑会带来测向模糊的问题。

发明内容

本发明提供了一种构建四阵元立体阵列的方法和装置,以解决在辐射源波达方向不确定的情况下,现有平面阵在较小俯仰角区域的测向精度低问题。

根据本发明的一个方面,提供了一种构建四阵元立体阵列的方法,所述方法包括:

将传统三阵元平面阵所在的三维直角坐标系任意旋转一初始角度,添加一个非共面的第四阵元,初步构建四阵元立体阵列,并基于构建的四阵元立体阵列获取测向模型和测向误差;

根据第四阵元的初始旋转角度和所述测向模型,获取辐射源波达方向的第一估计值;

根据所述辐射源波达方向的第一估计值和所述测向误差,获取测向误差最小值时对应的第四阵元的第一旋转角度;

再根据第四阵元的第一旋转角度、所述测向模型和所述测向误差迭代获取第四阵元的第N旋转角度值,所述N≥2;

判断第N旋转角度值与第N-1旋转角度的差值是否小于角度差值预设值和/或迭代次数N是否大于迭代次数预设值;若是,则停止迭代,根据所述第N旋转角度构建最终的四阵元立体阵列;若否,则继续迭代获取第N+1旋转角度。

根据本发明的另一个方面,提供了一种构建四阵元立体阵列的装置,所述装置包括存储器和处理器,所述存储器和所述处理器之间通过内部总线通讯连接,所述存储器存储有能够被所述处理器执行的计算机程序,所述计算机程序被所述处理器执行时能够实现如下步骤:

将传统三阵元平面阵所在的三维直角坐标系任意旋转一初始角度,添加一个非共面的第四阵元,初步构建四阵元立体阵列,并基于构建的四阵元立体阵列获取测向模型和测向误差;

根据第四阵元的初始旋转角度和所述测向模型,获取辐射源波达方向的第一估计值;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第三十六研究所,未经中国电子科技集团公司第三十六研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710486540.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top