[发明专利]一种强辐照场下的摄像头屏蔽装置及方法在审
申请号: | 201710487860.6 | 申请日: | 2017-06-23 |
公开(公告)号: | CN109121374A | 公开(公告)日: | 2019-01-01 |
发明(设计)人: | 朱焕铮;陆洁平;刘赓;王敬东;王仁生 | 申请(专利权)人: | 中广核达胜加速器技术有限公司 |
主分类号: | H05K9/00 | 分类号: | H05K9/00;H04N5/225 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 常亮 |
地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 辐照 摄像头屏蔽 摄像头 后盖 圆筒外壳 铅玻璃窗 铅玻璃 摄像头安装 摄像头结构 辐照环境 铅屏蔽体 使用寿命 进气管 铅屏蔽 体内部 装入 观测 穿过 侧面 加工 分析 | ||
本发明公开了一种强辐照场下的摄像头屏蔽装置,包括一圆筒外壳、一安装于圆筒外壳内部的侧面铅屏蔽体、一安装于圆筒外壳顶端的铅玻璃壳、一固定安装于铅玻璃壳中的铅玻璃窗、一后盖以及一穿过后盖与后盖连接的进气管。摄像头安装在铅屏蔽体内部,摄像头通过铅玻璃窗进行观测,延长强辐照场下工作的摄像头的使用寿命。本发明还公开了一种强辐照场下的摄像头屏蔽方法,通过对辐照环境进行分析并综合摄像头结构类型来设定强辐照场下的摄像头屏蔽装置的参数尺寸,加工强辐照场下的摄像头屏蔽装置后将摄像头装入,操作简单,且无需频繁更换摄像头。
技术领域
本发明涉及辐照场图像采集技术领域,更准确地说涉及一种强辐照场下的摄像头屏蔽装置及方法。
背景技术
在现今的工业生产中,会广泛涉及到对高能量、高强度辐射射线的应用,例如材料的辐射交联、工业CT等。在上述工业生产过程中,一般需要对待处理的物料或待成像的物体进行实时观察,以确保辐射过程安全顺利地进行。为了实现实时观察,需要布置监控摄像头,但是由于在上述工业生产中高能辐射的射线强度很高,能量也很高,处于该强辐照环境中的摄像头中的光学敏感器件CCD会受到较大的辐照损伤,使用一段时间后,摄像头就会出现“花屏”,需要对摄像头进行更换,严重影响使用寿命,频繁更换摄像头还会影响生产效率,如果辐照空间较为复杂,更换工序也会相应复杂化,进一步降低了工作效率,影响生产,增加维护成本。同时,高能辐照会电离空气产生强腐蚀能力的氧自由基,容易对构成摄像头的材料如钢铁和塑料产生腐蚀作用,导致摄像头的损坏。为了解决上述技术问题,现有的解决方案主要是针对特定辐照空间环境制定相应屏蔽方案,这种方式需要对每一种辐照情况进行相应的评估,工作量大,技术水准要求高,实现成本较高,不利于广泛普及。现在本领域由于缺乏一钟通用的屏蔽方案,一般仍不采用屏蔽措施,在摄像头出现问题后进行更换,而且对于某些狭小的监测观察区域,更换摄像头需要拆卸设备的相关部件,十分的不便。即便是采用屏蔽措施,也是在大致估计后采用一些基本的屏蔽手段,屏蔽效果不佳,同时耗时耗力。
发明内容
有鉴于此,本发明的主要目的在于提供一种强辐照场下的摄像头屏蔽装置,包括一圆筒外壳、一安装于所述圆筒外壳内部的侧面铅屏蔽体、一安装于所述圆筒外壳顶端的铅玻璃壳、一固定安装于所述铅玻璃壳中的铅玻璃窗、一后盖以及一穿过所述后盖与所述后盖连接的进气管。摄像头安装在所述铅屏蔽体内部,摄像头通过所述铅玻璃窗进行观测,减少摄像头光学敏感器件CCD受到的辐照剂量,以及辐照环境中臭氧对摄像头中的电路板及CCD的损害,从而延长强辐照场下工作的摄像头的使用寿命。
本发明的另一个目的在于提供一种强辐照场下的摄像头屏蔽方法,通过对辐照环境进行分析并综合摄像头结构类型来设定所述强辐照场下的摄像头屏蔽装置的参数尺寸,加工所述强辐照场下的摄像头屏蔽装置后将摄像头装入,操作简单,且无需频繁更换摄像头。
为了达到上述目的,本发明提供一种强辐照场下的摄像头屏蔽装置,包括:一圆筒外壳、一侧面铅屏蔽体、一铅玻璃壳、一铅玻璃窗、一后盖以及一进气管,所述侧面铅屏蔽体设置于所述圆筒外壳内部,且所述侧面铅屏蔽体与所述圆筒外壳的内壁贴合,所述铅玻璃壳设置于所述圆筒外壳顶端,所述铅玻璃窗固定安装于所述铅玻璃壳中,所述后盖设置于所述圆筒外壳底端,所述进气管穿过所述后盖与所述后盖连接。
优选地,所述圆筒外壳采用金属铝制成。
优选地,所述圆筒外壳的顶端具有4个顶螺纹孔,且4个所述顶螺纹孔均匀分布,所述圆筒外壳的底端具有4个底螺纹孔,且4个所述底螺纹孔均匀分布。
优选地,所述铅玻璃壳为圆柱状通孔,所述为铅玻璃壳边缘均匀分布个顶通孔,所述铅玻璃壳通过个所述顶通孔与4个顶螺纹孔连接。
优选地,所述铅玻璃壳采用金属铝制成。
优选地,所述铅玻璃窗呈圆片状,铅所述玻璃窗与所述铅玻璃壳之间使用环氧树脂胶粘连固定。
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