[发明专利]彩膜基板及其制备方法和显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体地，涉及彩膜基板及其制备方法和显示装置。

背景技术

现有显示面板中一般采用二氧化钛量子点制备彩色滤光层，在二氧化钛体系中，颜色的变化一般是通过CsPbX(X＝Cl，Br，I)成分调控来实现，例如CsPbBr₃发绿光，CsPbI₃发红光，而CsPbX(X＝Cl，Br，I)的尺寸可变范围很有限，特别是在小尺寸(<8nm)的强量子限域范围。而且，需要较强的背光源才可达到对显示面板亮度要求，光利用率低。

由此，显示面板的相关研究有待深入。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种可以实现小尺寸或提高光利用率的彩膜基板。

在本发明的一个方面，本发明提供了一种彩膜基板。根据本发明的实施例，该彩膜基板包括彩色滤光片，彩色滤光片包括多个彩色滤光单元，每个彩色滤光单元包括多个子彩色滤光片，多个子彩色滤光片分别允许不同颜色的光通过，且每个子彩色滤光片包括光子晶体和设置在光子晶体中的光致发光材料，光致发光材料与子彩色滤光片颜色相对应。由此，可以缩小子彩色滤光片的尺寸，实现高分辨率，且光子晶体既可以将其他颜色波长的光滤掉，又可以使通过光子晶体的光激发其中的光致发光材料，有效提高发光效率，而且，多个子彩色滤光片分别允许不同颜色的光通过，有效实现显示装置的显示效果。

根据本发明的实施例，每个子彩色滤光片中设置有介孔材料，且光致发光材料负载在介孔材料上。

根据本发明的实施例，介孔材料为介孔二氧化硅。

根据本发明的实施例，光致发光材料包括CsPbX，其中X为卤素。

根据本发明的实施例，子彩色滤光片中任意两点之间的距离不大于8纳米。

在本发明的另一方面，本发明提供了一种显示装置。根据本发明的实施例，该显示装置包括前面所述的彩膜基板。因为采用上述彩膜基板，由此可以缩小子彩色滤光片的尺寸，提高分辨率，同时又可以提高光的利用率。本领域技术人员可以理解，该显示装置具有前面所述的彩膜基板的所有特征和优点，在此不再一一赘述。

根据本发明的实施例，上述的显示装置进一步包括阵列基板，阵列基板与彩膜基板相对设置，且阵列基板上靠近彩膜基板的一侧设置有反射层。

根据本发明的实施例，反射层为半反射层。

在本发明的又一方面，本发明提供了一种制备彩膜基板的方法。根据本发明的实施例，该方法包括形成彩色滤光片的步骤，且该形成彩色滤光片的步骤包括：形成光子晶体层，光子晶体层包括多个光子晶体单元，每个光子晶体单元包括多个子光子晶体层，多个子光子晶体层分别允许不同颜色的光通过；对子光子晶体层进行刻蚀，在子光子晶体层中形成凹槽；在凹槽中设置光致发光材料，光致发光材料与子光子晶体层颜色相对应。由此，制备方法简便快捷，工艺成熟，易于工业化生产，而且制备的彩膜基板中可以实现小尺寸的子彩色滤光片，进而提高分辨率，同时光利用率较高。

根据本发明的实施例，在凹槽中设置光致发光材料之前，预先将光致发光材料负载到介孔材料上。

附图说明

图1是本发明一个实施例中彩膜基板的结构示意图。

图2是本发明又一个实施例中彩膜基板的结构示意图。

图3是本发明另一个实施例中复合材料带隙、颗粒半径与复合量的关系示意图。

图4是本发明又一个实施例中复合材料吸光度与复合量浓度关系的示意图。

图5是本发明又一个实施例中显示装置的结构示意图。

图6是本发明又一个实施例中制备彩膜基板的流程示意图。

图7是本发明又一个实施例中负载有光致发光材料的介孔材料的制备流程示意图。

图8显示了本发明又一个实施例中彩膜基板的结构示意图。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。