[发明专利]一种低VOC低剥离强度保护膜用无雾状残留丙烯酸酯压敏胶、其制备方法及其应用

权利要求书

1.一种低VOC低剥离强度保护膜用无雾状残留丙烯酸酯压敏胶，其特征在于，包括0.5-1.5重量份的B组分以及含有下述各重量份的各成分的A组分：

丙烯酸酯软单体30 -35份

反应型功能单体1.5-3份

丙烯酸酯硬单体4 -6份

引发剂0.2 -0.5份

溶剂65 -70份。

2.根据权利要求1所述的低VOC低剥离强度保护膜用无雾状残留丙烯酸酯压敏胶，其特征在于，所述的丙烯酸酯软单体为丙烯酸丁酯或丙烯酸异辛酯。

3.根据权利要求1所述的低VOC低剥离强度保护膜用无雾状残留丙烯酸酯压敏胶，其特征在于，所述的丙烯酸酯硬单体为醋酸乙烯酯或甲基丙烯酸异冰片酯。

4.根据权利要求1所述的低VOC低剥离强度保护膜用无雾状残留丙烯酸酯压敏胶，其特征在于，所述的反应型功能单体为甲基丙烯酸羟乙酯或富马酸。

5.根据权利要求1所述的低VOC低剥离强度保护膜用无雾状残留丙烯酸酯压敏胶，其特征在于，所述的引发剂为偶氮二异丁腈。

6.根据权利要求1所述的低VOC低剥离强度保护膜用无雾状残留丙烯酸酯压敏胶，其特征在于，所述的固化剂为乙酰丙酮铝、乙酰丙酮锆或MDI三聚体中的一种或两种以上。

7.根据权利要求1所述的低VOC低剥离强度保护膜用无雾状残留丙烯酸酯压敏胶，其特征在于，所述的溶剂为乙酸乙酯。

8.根据权利要求1-8中任意一项所述的低VOC低剥离强度保护膜用无雾状残留丙烯酸酯压敏胶，其特征在于，由下述方法制得A组分：

将所有反应单体及部分溶剂作为底料加入反应釜，溶剂的加入量为使所有反应单体总含量不低于60wt%，通过溶剂回流控制反应温度在75℃-78℃，加入部分引发剂，该部分引发剂为引发剂总量的60-70%，搅拌转速120-250r/min，反应进行3h后，将剩余的引发剂用溶剂溶解后滴加至反应体系，滴加时长2h；滴加完成后反应1h，用剩余的溶剂稀释，继续75℃-82℃保温2h，得到A组分。

9.一种如权利要求1-8中任意一项所述的低VOC低剥离强度保护膜用无雾状残留丙烯酸酯压敏胶的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：

将所有反应单体及部分溶剂作为底料加入反应釜，溶剂的加入量为使所有反应单体总含量不低于60wt%，通过溶剂回流控制反应温度在75℃-78℃，加入部分引发剂，该部分引发剂为引发剂总量的60-70%，搅拌转速120-250r/min，反应进行3h后，将剩余的引发剂用溶剂溶解后滴加至反应体系，滴加时长2h；滴加完成后反应1h，用剩余的溶剂稀释，继续75℃-82℃保温2h，得到A组分；将B组分独立保存。

10.一种如权利 要求1-8中任意一项所述的低VOC低剥离强度保护膜用无雾状残留丙烯酸酯压敏胶的使用方法，其特征在于，在A组分中加入B组分混合均匀，在基膜上涂布烘干固化成型得到保护膜，45℃-50℃干燥箱内熟化48h以上备用。