[发明专利]负型感光性树脂组成物、间隙体的制造方法、保护膜的制造方法以及液晶显示元件

说明书

技术领域

本发明涉及一种负型感光性树脂组成物、间隙体的制造方法、保护膜的制造方法以及液晶显示元件，尤其涉及一种能够提供良好的耐溅镀性的负型感光性树脂组成物、由所述负型感光性树脂组成物制得的间隙体或保护膜的制造方法以及包含所述间隙体或保护膜的液晶显示元件。

背景技术

一般而言，彩色滤光层表面的彩色印刷的像素与黑色矩阵会产生凹凸不平之处，一般于彩色滤光层的表面形成保护膜，藉此隐藏不平之处，进而达到平坦化的要求。

然而，在制造液晶显示元件或固态成像装置等光学元件中，会遇到严苛条件下的处理程序，例如在基板表面以溅镀(Sputtering)形成配线电极层时，会造成局部腐蚀或高温的产生。因此，需于这些元件的表面上铺设保护膜，以防止制造时元件受损。为使保护膜具有抵御上述处理的特性，该保护膜需要与基板间具有优异的附着力，以及高耐溅镀性。

另一方面，在已知技术中，彩色液晶显示元件中，为了维持两个基板间固定的层间距(晶胞间隙)，于整个基板上随机喷洒如聚苯乙烯珠或硅珠，其中该珠的直径为两基板间的间距。然而，此已知方式因喷珠的位置及密度分布并不均匀，造成背光源的光线受喷珠影响而散射，进一步使得显示元件的对比度降低。因此，以光刻工艺(photolithography)方式所开发出的间隙体用感光性组成物，遂成为业界的主流。该间隙体的形成方式，乃将该间隙体用的感光性组成物先涂布至基板，再于基板与曝光源间放入一指定形状光罩，可于曝光后再经显影形成一间隙体。依据此方法，可于红(R)、绿(G)、蓝(B)像素外的指定位置上形成间隙体，以解决已知技术的问题；晶胞间隙也可利用感光性成分形成的涂膜厚度来控制，使晶胞间隙的距离变得容易控制，具有精度高的优点。

由于该保护膜或间隙体系形成于彩色滤光片或是基板上，对透明度的要求极高。若保护膜或间隙体的透明度不佳，当应用于液晶显示元件时，将造成液晶显示元件的亮度不足，而影响液晶显示元件的显示品质。为提高保护膜或间隙体的透明度，日本特开2004-240241号专利揭示一负型感光组成物，其包含(A)共聚合物，该共聚物系由乙烯性不饱合羧酸(酐)、具环氧基的乙烯性不饱合基的化合物及其他乙烯性不饱合基的化合物；(B)乙烯性不饱合基的聚合物所共聚合而得；及(C)光起始剂，其为2-丁二酮-[4-甲硫基苯]-2-(O-肟醋酸盐)、1,2-丁二酮-1-(4-吗啉基苯基)-2-(O-苯甲酰肟)、1,2-辛二酮-1-[4-苯硫基苯]-2-[O-(4-甲基苯甲酰)肟]或其类似物。

然而，在制作配线电极层时，上述负型感光性组成物所制得的间隙体或保护膜因处于低压及溅镀所施加的等离子体环境中而导致膜厚降低及释气(outgassing)等问题的发生，故耐溅镀性的提升实为目前亟欲解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种能够提供良好的耐溅镀性的负型感光性树脂组成物，使用所述负型感光性树脂组成物能够解决负型感光性树脂组成物制得的间隙体或保护膜的耐溅镀性不佳的问题。

本发明提供一种负型感光性树脂组成物，包括：碱可溶性树脂(A)、含乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)、溶剂(D)、以及硅氧化合物(E)。其中，硅氧化合物(E)含有由式(E-1)所示的结构：

式(E-1)中，c为3至7的整数；L₁、L₂各自独立表示含有环氧脂环基的一价基团或者烷基，多个L₁、L₂间为相同或不同，且在c个L₁及L₂中至少一个基团为含有环氧脂环基的一价基团。

在本发明的一实施例中，上述的碱可溶性树脂(A)包括第一碱可溶性树脂(A-1)，第一碱可溶性树脂(A-1)具有由式(A1-1)所示的重复单元：