[发明专利]用于制造偏光膜的方法和系统有效
申请号: | 201710494228.4 | 申请日: | 2017-06-26 |
公开(公告)号: | CN107144910B | 公开(公告)日: | 2019-09-06 |
发明(设计)人: | 郭建生;徐维廷;王世豪 | 申请(专利权)人: | 住友化学股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;鲍俊萍 |
地址: | 日本国东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 偏光 方法 系统 | ||
1.一种用于制造偏光膜的方法,其特征在于,包括:
对于一偏光膜前驱物进行一染色处理及一交联处理,以形成一偏光膜,其中,该交联处理包括:
使该偏光膜前驱物通过一交联槽中的槽液;以及
通过投入一沉淀剂调整该槽液,该沉淀剂包括一阴离子和一金属阳离子的化合物,其中,在将该沉淀剂投入该槽液之后,该沉淀剂的该金属阳离子与该槽液中的一酸碱值调整剂的一阴离子反应形成一析出化合物,且其中,该沉淀剂的选择满足下列条件:
反应形成的该析出化合物的溶解度小于该沉淀剂的该化合物的溶解度。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,该沉淀剂的选择还满足至少下列任一条件:
该沉淀剂的该阴离子对于该槽液中的一光学调整剂具有还原性,其中该光学调整剂选自于由碘化钾、碘化锌和其组合所组成的群组;
反应形成的该析出化合物对于该槽液中的该偏光膜前驱物的一析出物具有絮凝性;
反应形成的该析出化合物的溶解度为20mg/100g H2O以下;以及
该沉淀剂的该金属阳离子于该槽液中的残留量介于1ppm~65ppm之间。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,该沉淀剂的该金属阳离子为1A族~5A族金属的阳离子或过渡金属的阳离子;且/或该沉淀剂的该阴离子选自于由卤素离子、碳酸根、碘酸根、溴酸根、氢氧根、硝酸根、亚硝酸根、硫酸根、磷酸根、过氯酸根、次氯酸根和有机酸根所组成的群组;且/或该沉淀剂的该化合物选自于由醋酸铅、氢氧化锶、醋酸锶、氢氧化钡、醋酸钡、甲酸钡和草酸钡所组成的群组;且/或该沉淀剂的投入量为相对于每100克的该槽液为1克~2克。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,该有机酸根选自于由甲酸根和草酸根所组成的群组。
5.根据权利要求1所述的方法,还包括下列处理其中至少一者:
在该染色处理之前,对于该偏光膜前驱物进行一膨润处理;
对于该偏光膜前驱物进行一延伸处理;
通过进行过滤移除反应形成的该析出化合物;
在该交联处理之后,对于该偏光膜前驱物进行一洗净处理;以及
在该交联处理之后,对于该偏光膜前驱物进行一干燥处理。
6.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,该偏光膜前驱物的材料包括聚乙烯醇;且/或该酸碱值调整剂选自于由过氯酸、氢碘酸、氢溴酸、盐酸、硫酸、硝酸、磷酸、氢氟酸、甲酸、抗坏血酸和乙酸所组成的群组。
7.一种用于以根据权利要求1~6中任一項所述的方法來制造偏光膜的系统,其特征在于,包括:
一染色槽,该染色槽用在对于该偏光膜前驱物进行该染色处理;以及
该交联槽,该交联槽用在对于该偏光膜前驱物进行该交联处理,以形成该偏光膜,该交联槽中的槽液含有该酸碱值调整剂的该阴离子和该沉淀剂的该阴离子和该金属阳离子,其中,该沉淀剂的该金属阳离子与该酸碱值调整剂的该阴离子反应形成析出化合物,且该沉淀剂的选择满足下列条件:
该析出化合物的溶解度小于该沉淀剂的该阴离子和该金属阳离子的化合物的溶解度。
8.根据权利要求7所述的系统,其特征在于,还包括下列设备其中至少一者:
一膨润槽;
一洗净槽;
一过滤装置,该过滤装置用于将该析出化合物从一滤液中移除;以及
一干燥炉。
9.一种用于制造偏光膜的方法,其特征在于,包括:
对于经过一染色处理之后的一偏光膜前驱物进行一交联处理,以形成一偏光膜,该交联处理包括:
使该偏光膜前驱物通过一交联槽中的槽液,该槽液含有一包括硫酸的酸碱值调整剂、一碘系光学调整剂和一基于聚乙烯醇的析出物其中至少一者;以及
通过投入一有机酸盐调整该槽液,其中该有机酸盐作为该包括硫酸的酸碱值调整剂的沉淀剂、该碘系光学调整剂的还原剂和/或该基于聚乙烯醇的析出物的絮凝剂。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,该有机酸盐为草酸钡。
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