[发明专利]应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台有效
| 申请号： | 201710495565.5 | 申请日： | 2017-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN107102518B | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 王亮;张亮;秦金;谭浩森;许凯 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人： | 郑立明;赵镇勇 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 应用于 近场 扫描 光刻 高精度 被动 对准 柔性 | ||
【权利要求书】：
1.一种应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台，其特征在于，包括上端台面、下端台面、基底，所述上端台面与下端台面之间通过双正交柔性铰链连接，掩膜通过真空吸附腔吸附在所述下端台面上，再放置在所述基底上；
所述上端台面与下端台面的四个角部之间分别通过所述双正交柔性铰链连接。
2.根据权利要求1所述的应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台，其特征在于，所述双正交柔性铰链包括两个正交的正圆柔性铰链。
3.根据权利要求1或2所述的应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台，其特征在于，所述上端台面与下端台面的四个角部之间还分别通过部分单圆柱铰链与所述双正交柔性铰链组合连接。
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