[发明专利]电离室、离子植入设备及离子植入方法有效
申请号: | 201710495674.7 | 申请日: | 2017-06-26 |
公开(公告)号: | CN107293469B | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 谢锐 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;C23C14/48 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电离室 离子 植入 设备 方法 | ||
本发明公布了一种电离室,应用于离子植入设备,所述电离室包括腔体、送气管及灯丝,所述送气管和所述灯丝位于所述腔体内,所述送气管弯折形成封闭的框体,所述灯丝收容于所述框体内,所述灯丝通电时产生热电子,所述送气管面对所述灯丝的一侧设有出气孔,所述出气孔用于输出离子源气体,所述离子源气体撞击所述热电子,以产生等离子体。本发明还公布了一种离子植入设备和离子植入方法。由于离子源气体与热电子的碰撞均匀,产生于腔体内各位置的等离子体浓度均匀,提高了离子植入效果,在提高等离子体浓度均匀性的过程中减少调节灯丝的电流频率,提高了灯丝的寿命,延长了设备维护周期,降低了显示设备生产成本。
技术领域
本发明涉及显示器件制造技术领域,尤其是涉及一种电离室、离子植入设备及离子植入方法。
背景技术
显示设备已成为人们现代生活中的不可缺少的一部分,在显示设备的低温多晶硅(Low Temperature Poly-silicon,LTPS)薄膜晶体管和有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)的制程中,需要使用离子植入设备将等离子体植入到玻璃基板。在离子植入设备中,离子源气体通过送气管均匀的进入电离室,电离室内的灯丝通入电流后产生热电子,热电子与离子源气体发生碰撞形成等离子体。
现有技术中,离子植入设备的送气管都是多个接入电离室的单孔,单孔流出的离子源气体与各灯丝的接触不均匀,为了保证产生的等离子体的均匀性,需要调整流过灯丝的电流,但是这样导致通过灯丝的电流不均匀,电流过大使灯丝过早断裂,缩短了灯丝的寿命,导致设备维护周期缩短,提高了显示设备生产成本,故无法在保证灯丝的寿命的前提下提高等离子体的均匀性、提高离子植入效果。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种电离室、离子植入设备及离子植入方法,用以解决现有技术中灯丝的寿命短,设备维护周期短,显示设备生产成本高,故无法在保证灯丝的寿命的前提下提高等离子体的均匀性、提高离子植入效果的问题。
为解决上述技术问题,本发明提供一种电离室,应用于离子植入设备,所述电离室包括腔体、送气管及灯丝,所述送气管和所述灯丝位于所述腔体内,所述送气管弯折形成封闭的框体,所述灯丝收容于所述框体内,所述灯丝通电时产生热电子,所述送气管面对所述灯丝的一侧设有出气孔,所述出气孔用于输出离子源气体,所述离子源气体撞击所述热电子,以产生等离子体。
进一步,所述出气孔的数量为多个,各所述出气孔的尺寸相同,并且所述出气孔的分布密度与所述出气孔与所述灯丝的距离负相关。
进一步,所述出气孔为单向气孔,向所述送气管输入所述离子源气体时,所述出气孔打开,所述离子源气体通过所述出气孔向所述送气管外流动,停止向所述送气管输入气体时,所述出气孔关闭,所述送气管内部与外界隔离。
进一步,所述灯丝与环绕包围所述灯丝的送气管形成等离子体发生组,所述等离子体发生组的数量为多个。
进一步,所述等离子体发生组中的所述灯丝的数量为多个,所述送气管同时环绕包围多个所述灯丝。
进一步,所述送气管还包括支管,所述支管连通所述送气管,所述支管位于所述等离子体发生组中相邻的所述灯丝之间,所述支管面对所述灯丝的一侧设有所述出气孔。
进一步,所述等离子体发生组中的所述灯丝的数量为一个,所述送气管对称环绕包围所述灯丝。
进一步,所述离子源气体为氟化硼气体或磷化氢气体。
本发明还提供一种离子植入设备,所述离子植入设备包括以上任意一项所述电离室。
本发明还提供一种离子植入方法,包括:
提供离子植入设备,所述离子植入设备包括电离室,所述电离室包括腔体、送气管及灯丝,所述送气管和所述灯丝位于所述腔体内,所述送气管环绕包围所述灯丝,并且所述送气管面对所述灯丝的一侧设有出气孔,
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