[发明专利]一种太阳能单晶硅片清洗剂在审

专利信息
申请号: 201710496600.5 申请日: 2017-06-26
公开(公告)号: CN107118873A 公开(公告)日: 2017-09-01
发明(设计)人: 张兆民 申请(专利权)人: 张兆民
主分类号: C11D3/60 分类号: C11D3/60;C11D3/04;C11D3/08;C11D3/20;C11D3/33;C11D3/37
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 221000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 太阳能 单晶硅 洗剂
【权利要求书】:

1.一种太阳能单晶硅片清洗剂,其特征在于,按照质量份数计包括以下组分:氢氧化钾20-50份,表面活性剂15-20份,无水硅酸钠30-50份,二丙二醇甲醚10-15份,乙二胺四乙酸四钠盐13-18份,防腐剂10-30份,异构醇聚氧乙烯醚30-50份,水200-250份。

2.按照权利要求1所述的一种太阳能单晶硅片清洗剂,其特征在于,按照质量份数计包括以下组分:氢氧化钾20份,表面活性剂15份,无水硅酸钠30份,二丙二醇甲醚10份,乙二胺四乙酸四钠盐13份,防腐剂10份,异构醇聚氧乙烯醚30份,水200份。

3.按照权利要求1所述的一种太阳能单晶硅片清洗剂,其特征在于,按照质量份数计包括以下组分:氢氧化钾50份,表面活性剂20份,无水硅酸钠50份,二丙二醇甲醚15份,乙二胺四乙酸四钠盐18份,防腐剂30份,异构醇聚氧乙烯醚50份,水250份。

4.按照权利要求1所述的一种太阳能单晶硅片清洗剂,其特征在于,按照质量份数计包括以下组分:氢氧化钾30份,表面活性剂17份,无水硅酸钠35份,二丙二醇甲醚11份,乙二胺四乙酸四钠盐15份,防腐剂15份,异构醇聚氧乙烯醚35份,水220份。

5.按照权利要求1所述的一种太阳能单晶硅片清洗剂,其特征在于,按照质量份数计包括以下组分:氢氧化钾40份,表面活性剂19份,无水硅酸钠45份,二丙二醇甲醚13份,乙二胺四乙酸四钠盐17份,防腐剂25份,异构醇聚氧乙烯醚45份,水230份。

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