[发明专利]光栅的制备方法

说明书

本发明涉及一种光栅的制备方法，其包括以下步骤：提供一基板，在所述基板的表面设置一第一光刻胶层，在所述第一光刻胶层远离所述基板的表面设置一第二光刻胶层，该第二光刻胶层的曝光剂量大于第一光刻胶层的曝光剂量；对所述第一光刻胶层和第二光刻胶层进行曝光；对第一光刻胶层和第二光刻胶层进行显影，形成图案化光刻胶层，基板的部分表面暴露，该图案化光刻胶层的表面具有多个顶面及侧面，每相邻的顶面、侧面及与该侧面连接的暴露的基板表面形成Z型表面；在所述图案化光刻胶层和暴露的基板形成的Z型表面上沉积一预制层，得到Z型结构；去除所述图案化光刻胶层。

技术领域

本发明涉及一种光栅的制备方法，特别涉及一种Z型光栅的制备方法。

背景技术

光栅是现代精密仪器中最常用到的光学器件之一。随着现代精密仪器的分辨率的要求越来越高，对光栅的要求也越来越高，通过光射色散原理，可以实现特定波长分光、滤光等。制备高精度、高密度的光栅非常困难，现有技术一般采用刻蚀技术来制备，如电子束刻蚀、聚焦离子束刻蚀、深紫外光刻、光全息刻蚀等。其中深紫外光刻方法有着衍射极限的问题，此外上述方法都有诸如工艺复杂、成本太高，不能工业化生产等问题。

发明内容

有鉴于此，确有必要提供一种成本低、工艺简单的光栅的制备方法。

一种光栅的制备方法，其包括以下步骤：提供一基板，在所述基板的表面设置一第一光刻胶层，在所述第一光刻胶层远离所述基板的表面设置一第二光刻胶层，该第二光刻胶层的曝光剂量大于第一光刻胶层的曝光剂量；对所述第一光刻胶层和第二光刻胶层进行曝光；对第一光刻胶层和第二光刻胶层进行显影，形成图案化光刻胶层，基板的部分表面暴露，该图案化光刻胶层的表面具有多个顶面及侧面，每相邻的顶面、侧面及与该侧面连接的暴露的基板表面形成Z型表面；在所述图案化光刻胶层和暴露的基板形成的Z型表面上沉积一预制层，得到Z型结构；去除所述图案化光刻胶层。

相较于现有技术，本发明提供的光栅的制备方法，通过曝光、显影不同曝光剂量的光刻胶，即可得到连续的Z型结构，无需刻蚀及其它掩模结构，方法工艺简单，成本低；同时，制备过程所采用的光刻胶可大面积涂敷，因此，可方面制备大面积周期性的光栅，提高了光栅的产率。

附图说明

图1为本发明第一实施例提供的光栅的制备方法的工艺流程图。

图2为本发明第一实施例提供的第一光刻胶层和第二光刻胶层的曝光流程示意图。

图3为本发明第一实施例提供的图案化光刻胶层的扫描电镜照片。

图4为本发明提供的Z型光栅结构的示意图。

图5为本发明第二实施例提供的光栅的制备方法的工艺流程图。

图6为本发明提供的Z型光栅结构的扫描电镜照片。

图7为本发明第二实施例提供的光栅的制备方法的工艺流程图。

主要元件符号说明