[发明专利]一种大棚富硒西瓜种植的方法

说明书

技术领域

本发明属于农业种植技术领域，具体涉及一种大棚富硒西瓜种植的方法。

背景技术

西瓜，为夏季之水果，果肉味甜，能降温去暑，果肉中含有蛋白质、葡萄糖、蔗糖、果糖、苹果酸、瓜氨酸、内氨酸、丙酸等营养成分，营养丰富，还具有清热解暑、解烦止渴、利尿、清热润肠等功效，中国民间谚语云：夏日吃西瓜，药物不用抓。

硒，化学符号是Se，在自然界有两种存在方式：无机硒和植物活性硒；它是谷胱甘肽过氧化物酶（GSH-Px）的组成成分，具有较强的抗氧化性和抗癌性，可防止器官老化与病变，能够清除体内自由基，排除体内毒素、能有效的抑制过氧化脂质的产生；此外，硒与金属的结合力很强，形成金属硒蛋白复合而解毒、排毒。西瓜为夏季经常食用的解暑水果，其瓜瓤营养成分丰富、含水量高，易于消耗、吸收；提高西瓜中含硒量，可增加西瓜的食用功能性，提高人体免疫力。西瓜在正常种植情况下，含硒量较少；传统种植方法，多采用土壤中增加无机硒肥，提高西瓜对硒的吸收，由于无机硒肥利用率低、流失大，很难被西瓜吸收利用。西瓜种子处理和育苗阶段，未增加富硒成分，种子和幼苗中硒含量低，影响硒的富集。富硒液喷洒方法，多采用后期结果后喷洒，喷洒时间短，由于蒸发作用影响，西瓜植株对硒成分吸收率低，西瓜中硒含量偏低。

发明内容

本发明针对现有的问题：种子处理和育苗阶段，未增加富硒成分，种子和幼苗中硒含量低，影响硒在植株内的富集。土壤施肥方面，有机肥多施洒于土壤表层，成分流失严重，西瓜根部吸收率低；有机肥中采用无机硒添加，植物对无机硒利用率低。富硒液喷洒方法，多采用后期结果后喷洒，喷洒时间短，由于蒸发作用影响，西瓜植株对硒成分吸收率低，西瓜中硒含量偏低。为解决上述问题，本发明提供了一种大棚富硒西瓜种植的方法。

本发明是通过以下技术方案实现的：

一种大棚富硒西瓜种植的方法，包括以下方面：

（1）种子处理：除去西瓜种子劣质部分，使用优质西瓜种育苗，并在50ppm次氯酸钠溶液中浸泡15-17min，杀菌处理；

（2）种子预发芽：将富硒营养液，在强磁化器中处理，经过磁化可增加营养液渗透压，提高植株吸收效果；培养托盘和棉纱布杀菌处理，将棉纱布折成2层，浸入富硒营养液中，取出拧去水分，平铺于培养托盘底部；将西瓜种子在棉纱布上平铺一层，共计铺设3-4层，进行恒温预发芽，提高种子中硒的含量；

（3）无土育苗：将富硒营养液加入至N6培养基中混合，其中富硒营养液与N6培养基质量配比为1:3，制得富硒培养基；经过预发芽的西瓜种子移植到富硒培养基中，进行无土育苗，无土培养幼苗对营养液吸收利用率高，可增加幼苗中硒含量；

（4）土壤施肥：用次氯酸钠溶液对大棚种植土壤喷洒，晾晒3-4天；对土壤施富硒有机肥，栽种畦由下向上共四层，减少成分流失，有利于植株根部吸收：第一层富硒有机肥层，厚度3-4cm；第二层土层，厚度5-7cm，第三层富硒有机肥层，厚度1.5-2cm；第四层土层，厚度4-5cm；然后，向种植区土壤喷洒含有5%-6%发酵剂的水，用塑料薄膜将栽种畦封盖，静置5-7天，对有机肥进行土壤内发酵，提高有机肥中有机硒成分降解；

（5）土壤移栽：在栽种畦上，西瓜幼苗按照株间距为8-10cm移栽，并使用浓度为0.5%尿素液对根部浇灌定植；

（6）种植管理：大棚温度23℃-26℃，昼夜温差不高于10℃，湿度55%-60%；在白天和夜间，进行二氧化碳和氧气含量调整，白天高二氧化碳，可提高光合作用，夜间，提高氧气含量，提高植株的有氧呼吸和代谢水平，促进生长；

（7）富硒营养液喷洒：喷洒前，对富硒营养液进行磁化处理，在西瓜不同生长阶段，喷洒富硒液，提高植株对硒的吸收和体内富集；幼苗生长期，每9-10天，喷洒1次；幼苗至开花前，每6-7天，喷洒1次；结果至成熟期，每3-4天，喷洒1次；选择早晨9-10点进行喷洒，处于蒸发和光合作用上升阶段，此时喷洒，可减少富硒液蒸发量，通过蒸腾和光合作用迅速被植株吸收利用。

步骤（2）所述的富硒营养液，其各配制成分质量计份为：

无菌水100-110份、印楝素1-3份、植物活性硒0.3-0.5、硼钾钙镁锌肥0.4-0.7份、赤霉素0.1-0.2份。

步骤（2）所述的恒温预发芽，其参数设置为：

温度25℃-28℃，湿度65%-70%，时间2-3天。

步骤（2）所述的强磁化器，其磁化参数为：

压强1.6Pa，磁化温度40℃-43℃，磁化时间0.5-1h；富硒营养液在每次使用前，进行磁化处理。