[发明专利]一种利用3D打印制作脱胎漆器的方法在审

专利信息
申请号: 201710498230.9 申请日: 2017-06-27
公开(公告)号: CN107283594A 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 俞磊 申请(专利权)人: 闽江学院
主分类号: B28B1/00 分类号: B28B1/00;B33Y10/00
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司35100 代理人: 蔡学俊,林文弘
地址: 350108 福建省*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 利用 打印 制作 脱胎 漆器 方法
【说明书】:

技术领域

本发明属于脱胎漆器制作领域,具体涉及一种利用3D打印制作脱胎漆器的方法。

背景技术

(福建)福州脱胎漆器是具有独特民族风格和浓郁地方特色的中国传统艺术珍品,与北京的景泰蓝、江西的景德镇瓷器并称为中国传统工艺的“三宝”,享誉国内外。清宣统二年(1910年)以来,参加美国圣路易斯博览会、意大利觉兰多博览会、德国柏林卫生展览会、英国伦敦博览会和在美国芝加哥、日本东京,以及菲律宾、比利时、巴拿马等地举行的国际博览会,多次荣获特等金牌奖、头等金牌奖和最优奖等多种荣誉,曾被誉为“珍贵黑宝石”和“东方珍品”。福州脱胎漆器髹饰技艺于2006年入选国家非物质文化遗产。

福州“脱胎漆器”是使用“夹纻”技法进行制作。其具体方法是以泥土为漆器的底模,用麻布,瓦灰反复在底模上层层裱褙,然后阴干,再脱去里面底模中的泥,最后用多道工序完成脱胎漆器的制作。

在传统脱胎漆艺底模创作过程中,由于底胚造型有限,导致很多脱胎漆艺家无法随心所欲的进行创作。这是因为一方面是手工制作不了非常复杂的底胚模型,另一方面,太过复杂的模型在后面的制作工序中无法有效取出。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术的不足,提供一种利用3D打印制作脱胎漆器的方法。本发明结合新兴的3D打印技术,突破传统手工制作的底模模型,克服了传统手工制作不了非常复杂的底胚模型以及底模无法取出的缺点,然后利用聚乳酸易降解的特性,对模型进行脱模,让传统脱胎漆艺焕发出新活力。

为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:

一种利用3D打印制作脱胎漆器的方法,其特征在于:具体包括以下步骤:

(1)底模的制备:利用三维软件制作脱胎漆器底模造型,并将模型保存为STL文件格式,然后使用可溶性聚乳酸(PLA)进行3D打印制作,并在不显眼处(脱胎漆器底模的底盘或接缝处)预留进出水口,制得脱胎漆器底模;

(2)磨砂、上漆:对步骤(1)制得的底模进行表面的磨砂处理,以增加底漆的附着性,随后喷涂底漆;

(3)裱褙:用麻布和瓦灰反复在底模上层层裱褙,然后阴干;

(4)脱底模:从预留的进出水口处灌入溶剂(水或酒精),静置8-10小时,待底模完全溶解后,把溶剂倒出,则制得所述脱胎漆器。

如上所述的脱胎漆器底模造型,如:传统脱胎漆中的瓶、碗、茶具等,亦或是现代年轻人更愿意接受的动漫人物形象、玫瑰花等。即不同的脱胎漆器具有不同的外部形状,制作人员可以根据个人的喜好,私人定制多种不同的脱胎漆器的底模。由于电脑文件的可复制性,完全达到批量生产的效果。

本发明的有益效果在于:与现有的技术相比,本发明结合新兴的3D打印技术,突破传统手工制作的底模模型,克服了传统手工制作不了非常复杂的底胚模型以及底模无法取出的缺点,然后利用聚乳酸易降解的特性,对模型进行脱模,让传统脱胎漆艺焕发出新活力。

具体实施方式

以下结合具体实施例对本发明做进一步说明,但本发明不仅仅限于这些实施例。

实施例1

一种利用3D打印制作脱胎漆器的方法,其特征在于:具体包括以下步骤:

(1)底模的制备:利用三维软件制作脱胎漆器底模造型,并将模型保存为STL文件格式,然后使用可溶性聚乳酸(PLA)进行3D打印制作,并在脱胎漆器底模的底盘处预留进出水口,制得脱胎漆器底模;

(2)磨砂、上漆:对步骤(1)制得的底模进行表面的磨砂处理,随后涂抹底漆;

(3)裱褙:用麻布和瓦灰反复在底模上层层裱褙,然后阴干;

(4)脱底模:从预留的进出水口处灌入水,静置8小时,待底模完全溶解后,把溶剂倒出,则制得所述脱胎漆器。

实施例2

一种利用3D打印制作脱胎漆器的方法,其特征在于:具体包括以下步骤:

(1)底模的制备:利用三维软件制作脱胎漆器底模造型,并将模型保存为STL文件格式,然后使用可溶性聚乳酸(PLA)进行3D打印制作,并在脱胎漆器底模的接缝处预留进出水口,制得脱胎漆器底模;

(2)磨砂、上漆:对步骤(1)制得的底模进行表面的磨砂处理,随后涂抹底漆;

(3)裱褙:用麻布和瓦灰反复在底模上层层裱褙,然后阴干;

(4)脱底模:从预留的进出水口处灌入酒精,静置10小时,待底模完全溶解后,把溶剂倒出,则制得所述脱胎漆器。

以上所述仅为本发明的较佳实施例,凡依本发明申请专利范围所做的均等变化与修饰,皆应属本发明的涵盖范围。

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