[发明专利]高色度薄片有效

专利信息
申请号: 201710499404.3 申请日: 2017-06-27
公开(公告)号: CN107544106B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: J.赛德尔;M.特维斯;K.梁;J.J.库纳;J.齐巴;保罗·T·科尔曼 申请(专利权)人: 唯亚威通讯技术有限公司
主分类号: G02B5/12 分类号: G02B5/12;G02B5/28
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 张瑞;杨明钊
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 色度 薄片
【说明书】:

本申请公开了一种包括反射器的物品,反射器具有第一表面以及与第一表面相反的第二表面;在反射器的第一表面外部的第一选择性光调制器层;在反射器的第二表面外部的第二选择性光调制器层;在第一选择性光调制器层外部的第一吸收器层;以及在第二选择性光调制器层外部的第二吸收器层;其中,第一和第二选择性光调制器层中的每一个包括基质材料。本申请还公开了形成所述物品的方法。

技术领域

本公开总体涉及一种物品,诸如形成为箔片(foil)、片材(sheets)、和/或薄片(flakes)的形式的光学装置,其可用作颜料(pigments)。所述颜料可以(i)包括强色,以及(ii)具有高翻面(flop),即是镜面的、并且具有可随着角度变化而从亮到暗变化的金属外观。本申请还公开了形成所述物品的方法。

背景技术

物品(诸如,薄片)可用做具有增强的光学性能的消费者应用和货币(currency)的安全特征。不幸的是,当前的制造方法,诸如气相沉积工艺,需要昂贵和复杂的设备来制造薄片。当前存在的较为廉价的方法提供用作安全特征的较差质量的颜料。另外,通过蒸发实现的聚合物薄膜的沉积导致较差的层间附着。此外,在真空中工作将会随着时间而不利地影响设备的产能。此外,存在大量与该设备的维护(这需要为腔室泵送和通风)相关的大量的非生产时间。此外,可用于制造薄片或箔片中使用的材料类型也仅限于那些可在低压下被气化的材料,从而排除了大多有机材料。

发明内容

在一个方面,公开了一种物品,其可包括反射器,所述反射器具有第一表面以及与所述第一表面相反的第二表面;在所述反射器的第一表面外部的第一选择性光调制器层;在所述反射器的第二表面外部的第二选择性光调制器层;在所述第一选择性光调制器层外部的第一吸收器层;以及在所述第二选择性光调制器层外部的第二吸收器层;其中第一和第二选择性光调制器层中的每一个包括基质(host)材料。

在另一方面,公开了一种制造物品的方法,包括:在基底上沉积第一吸收器层;在所述第一吸收器层上沉积第一选择性光调制器层;在所述第一选择性光调制器层上沉积反射器;以及在所述反射器上沉积第二选择性光调制器层;以及在所述第二选择性光调制器层上沉积第二吸收器层;其中第一选择性光调制器层和第二选择性光调制器层中的至少一个通过液体涂覆工艺沉积。

多个实施例的其他特征和优势将在下面的描述中部分地阐述,并且部分地将从该描述而变得显而易见,或者可以通过多个实施例的实践而习得。将通过在这里的说明中特别指出的元素和组合而实现和获得多个实施例的目的和其他的优势。

附图说明

本公开的多个方面和实施例中能够从细节的描述和附图而更多地理解,其中:

图1是根据本公开的示例的诸如薄片形式的物品截面图;

图2是根据本公开的另一示例的诸如薄片形式的替代物品的截面图;

图3是根据本公开的示例的、在从基底释放之前的物品的截面图;以及

图4是根据本公开的示例的、示出了沉积选择性光调制器层的步骤的液体涂覆工艺的截面图。

在整个说明书和附图中,类似的附图标记指代相同的元件。

具体实施方式

应当理解,前述的概要描述和后续的详细描述都是示例性的,并且仅意在提供对如权利要求所述的技术的解释。在其更宽泛和变化的实施例中,本文公开了诸如光学装置的物品,例如,形成为箔片、片材和薄片的形式;以及公开了制造该物品的方法。

在一个方面,如图1所示,物品10可包括反射器16,其具有第一表面以及与第一表面相反的第二表面;在反射器16的第一表面外部的第一选择性光调制器层(SLML)14;在反射器16的第二表面外部的第二选择性光调制器层14’;在第一选择性光调制器层14外部的第一吸收器层12;以及在第二选择性光调制器层14’外部的第二吸收器层12’;其中第一和第二选择性光调制器层14、14’的每一个包括基质材料。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于唯亚威通讯技术有限公司,未经唯亚威通讯技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710499404.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top