[发明专利]一种自酸蚀正畸封闭剂及其用途

说明书

本发明公开了一种自酸蚀正畸封闭剂及其用途，该自酸蚀正畸封闭剂由市售的自酸蚀粘接剂AEO添加甲基丙烯酰氧乙基磷酸胆碱MPC、甲基丙烯酸十六烷基二甲铵DMAHDM得到，具有抗蛋白、抗菌作用，用于口腔正畸粘接中，能够抑制牙菌斑的形成和堆积，预防正畸治疗中牙釉质脱矿的发生。

技术领域

本发明属于口腔正畸技术领域，具体涉及一种自酸蚀正畸封闭剂及其用途。

背景技术

正畸治疗周期往往长达两年之久，托槽本身结构复杂，容易造成食物残渣的积累，阻碍口腔清洁；而患者尤其幼儿患者往往不够重视口腔卫生，刷牙不干净不彻底，食物残渣长期积累附着在牙面，导致牙釉质脱矿的发生。而且传统粘结正畸托槽之前，需要对牙齿表面进行酸蚀处理，以增加托槽的粘结强度。但是传统的酸蚀粘接方法对牙釉质有不利影响。有研究表明，常规的37％磷酸酸蚀去除了约3～10μm的表面釉质，另25μm表现出轻微组织学改变，以形成必须的机械嵌和，更深的局部区域的溶解大概产生深至100μm的渗透，去除托槽后的釉质损失达到约150～160μm，甚至能引起局部的釉质裂，经过传统磷酸酸蚀处理后的牙釉质表面粗糙度增加，有利于菌斑的堆积，更容易导致牙釉质脱矿的发生。而牙釉质脱矿是固定矫治的危险因素之一，是龋病的早期表现，如病变进一步发展将会形成龋洞。因此，牙釉质脱矿是正畸技术中不容忽视的问题之一。

目前预防牙釉质脱矿的方法大都以氟化物为主，然而氟化物效果有限，且局部应用氟化物也易产生副作用。因此，目前针对正畸过程中牙釉质脱矿还没有很好的处理办法。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的不足之处，提供了一种自酸蚀正畸封闭剂及其用途，具有抗蛋白、抗菌作用，用于口腔正畸粘接中，能够抑制牙菌斑的形成和堆积，促进牙釉质的再矿化，预防正畸治疗中牙釉质脱矿的发生。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案之一是：

一种自酸蚀正畸封闭剂，按质量份数计，包括95～105份自酸蚀粘接剂AEO、6～9份甲基丙烯酰氧乙基磷酸胆碱MPC、4～6份甲基丙烯酸十六烷基二甲铵DMAHDM，且其中MPC添加质量不超过AEO质量的7.5％，DMAHDM添加质量不超过AEO质量的5％。

一实施例中：按质量份数计，包括100份自酸蚀粘接剂AEO、7.5份甲基丙烯酰氧乙基磷酸胆碱MPC、5份甲基丙烯酸十六烷基二甲铵DMAHDM。

一实施例中：所述DMAHDM通过以下方法制备得到：将DMAEMA、BHD及乙醇按照9～11mmol：9～11mmol：2.5～3.5g的配方比例混合，65～75℃搅拌反应22～26h，除去乙醇，即得DMAHDM。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案之二是：

上述自酸蚀正畸封闭剂在口腔正畸中的用途。

一实施例中：所述自酸蚀正畸封闭剂用于粘接正畸托槽之前，先用该自酸蚀正畸封闭剂对牙齿表面进行封闭处理，然后再粘接正畸托槽。

本技术方案与背景技术相比，它具有如下优点：