[发明专利]双能分析光栅在审
| 申请号： | 201710504101.6 | 申请日： | 2017-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN107290359A | 公开（公告）日： | 2017-10-24 |
| 发明（设计）人： | 荣锋;梁莹 | 申请（专利权）人： | 天津工业大学 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300387 天津市西青*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 分析 光栅 | ||
【权利要求书】：
1.一种双能分析光栅，其特征在于，双能分析光栅由高能栅条和低能栅条水平交错排列组成，栅条以硅为基底，高能栅条宽度为2μm，在硅基的正面挖50μm深槽，填充铋，在硅基背面挖280μm深槽，填充碘化铯；低能栅条宽度为2μm，在硅基没有填充，在光栅背面整体电镀120μm厚的碘化铯。
2.根据权利要求1所述的双能分析光栅，其特征在于，双能分析光栅整体高度为5cm，宽度为5cm，高能栅条和低能栅条宽度、高度相同，周期为4μm。
3.根据权利要求1所述的双能分析光栅，其特征在于，双能分析光栅的高能栅条和低能栅条厚度一致，栅条厚度误差低于4μm。
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