[发明专利]一种离子溅蚀在金属表面制备孔径可控纳米多孔的方法

权利要求书

1.一种离子溅蚀在金属表面制备孔径可控纳米多孔的方法，利用入射高能离子对金属表面的溅射刻蚀作用，通过控制入射离子使之与金属表面呈特定角度进行辐照来使金属面出现圆整的纳米孔，通过控制离子辐照的剂量来调节金属表面所形成纳米孔的大小，其特征在于：将清洗过的金属件固定于靶盘上并放入对配有离子束辐照系统的真空腔中，抽真空使其真空度达到10^-4Pa级；对金属件表面进行离子束辐照处理，离子束与金属面间入射角的选取范围为80°-90°，离子束加速电压的选取范围为1keV-100keV，束流大小的选取范围为100mA-50μA，离子辐照剂量的选取范围为10¹⁴-10¹⁸cm^-2；使用离子束顺次扫过待制备纳米多孔结构的金属表面，并通过控制离子束的辐照剂量来实现合金表面不同孔径纳米多孔的制备。

2.如权利要求1所述的一种离子溅蚀在金属表面制备孔径可控纳米多孔的方法，其特征在于：所述清洗是指将金属件的抛光面朝上放于装有丙酮的烧杯中，进行超声清洗30分钟，随后取出再放于另一装有丙酮的烧杯中再次超声清洗20分钟以上，取出吹干备用。

3.如权利要求2所述的一种离子溅蚀在金属表面制备孔径可控纳米多孔的方法，其特征在于：所述金属件抛光是通过砂纸打磨和机械抛光使待离子辐照金属表面粗糙度低于0.05μm。

4.如权利要求1所述的一种离子溅蚀在金属表面制备孔径可控纳米多孔的方法，其特征在于：离子束与金属面间入射角的选择范围为84°-89°。

5.如权利要求1所述的一种离子溅蚀在金属表面制备孔径可控纳米多孔的方法，其特征在于：离子束加速电压的选择范围为20keV-80keV。

6.如权利要求1所述的一种离子溅蚀在金属表面制备孔径可控纳米多孔的方法，其特征在于：离子束束流大小的选择范围为1μA-30μA。

7.如权利要求1所述的一种离子溅蚀在金属表面制备孔径可控纳米多孔的方法，其特征在于：离子辐照剂量的选择范围为10¹⁵-10¹⁶cm^-2。

8.如权利要求1所述的一种离子溅蚀在金属表面制备孔径可控纳米多孔的方法，其特征在于：离子束是包括H⁺、He⁺、Ar⁺在内的轻离子束。