[发明专利]研磨层及其制造方法以及研磨方法有效
申请号: | 201710507058.9 | 申请日: | 2017-06-28 |
公开(公告)号: | CN107571144B | 公开(公告)日: | 2020-06-12 |
发明(设计)人: | 潘毓豪;沈清煌;王裕标 | 申请(专利权)人: | 智胜科技股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/24 | 分类号: | B24B37/24;B24B37/26 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马雯雯;臧建明 |
地址: | 中国台湾*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 及其 制造 方法 以及 | ||
本发明提供一种研磨层及其制造方法以及研磨方法,所述研磨层的制造方法包括以下步骤。提供模腔具有一轮廓图案的模具,轮廓图案沿一方向的剖面包括多个凹槽以及至少一凹穴部,其中该至少一凹穴部配置在该些凹槽中的至少一者的底部上。将聚合物材料配置于模腔中。使聚合物材料固化成型,以形成一半成品,其中半成品沿该方向的剖面包括对应凹槽的多个研磨部以及对应至少一凹穴部的至少一凸出部。对该半成品进行一平面化程序,以移除至少一凸出部。
技术领域
本发明涉及一种研磨层及其制造方法以及研磨方法,尤其涉及一种制造过程中不受气泡影响的研磨层及其制造方法,以及使用所述研磨层的研磨方法。
背景技术
在产业的元件制造过程中,研磨制程是现今较常使用来使待研磨的物件表面达到平坦化的一种技术。在研磨制程中,物件是通过其本身与研磨垫的研磨层的研磨面彼此进行相对运动,以及选择于物件表面及研磨面之间提供一研磨液来进行研磨。基于此,若研磨面具有缺陷,将影响研磨制程的效率及质量。
然而,目前现有方法所制得的研磨层的研磨面上通常存在有凹洞(void)缺陷。详细而言,请参照图1,在现有方法中,由于使用任何例如灌注或压模方式将研磨层材料置于模具10内时,空气或研磨层材料本身产生的气体无法完全排出而以气泡B的形式存留在模具10与研磨层材料间,因此研磨层材料固化而形成研磨层20时,研磨层20的研磨面22上就会有气泡B所造成的凹洞缺陷V,而影响研磨质量。
因此,仍有需求提升研磨质量的研磨层,以供产业所选择。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种研磨层的制造方法,使得研磨层不具有气泡所造成的凹洞缺陷,进而使利用研磨层的研磨方法具有较佳的研磨质量。
本发明的研磨层的制造方法包括以下步骤。首先,提供具有模腔的模具,模腔具有一轮廓图案,该轮廓图案沿一方向的剖面包括多个凹槽以及至少一凹穴部,其中至少一凹穴部配置在凹槽中的至少一者的底部上。接着,将一聚合物材料配置于模腔中。然后,使聚合物材料固化成型,以形成一半成品,其中半成品沿该方向的剖面包括对应凹槽的多个研磨部以及至少一凹穴部的至少一凸出部。之后,对半成品进行一平面化程序,以移除至少一凸出部。
本发明的研磨层具有一表面图案,表面图案沿一方向的剖面具有多个沟槽以及多个研磨部,每一沟槽配置在每两相邻的研磨部之间,以及包括主体层及表皮层。表皮层配置在主体层的表面上,且研磨部中的至少一者的顶部上有至少一平面化区域暴露出主体层。
本发明的研磨方法用于研磨一物件,且包括以下步骤。首先,提供研磨垫,研磨垫包括前述的研磨层。接着,对物件施加一压力以压置于研磨垫上。之后,对物件及研磨垫提供一相对运动。
基于上述,在本发明的研磨层的制造方法中,通过使用模腔的轮廓图案沿一方向的剖面包括多个凹槽以及至少一凹穴部,且至少一凹穴部配置在凹槽中的至少一者的底部上的模具来成型半成品,并对半成品进行平面化程序,使得研磨层具有新颖结构,以及具有平坦研磨面而不具有气泡所造成的凹洞缺陷。如此一来,本发明的研磨层适用于制成研磨垫,并使得利用所述研磨垫的研磨方法具有良好的研磨效率及质量。
为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施方式,并配合附图作详细说明如下。
附图说明
图1是制造过程中的现有研磨层的剖面示意图。
图2是本发明一实施方式的研磨垫的研磨层的上视示意图。
图3是沿图2中剖线I-I’的剖面示意图。
图4是本发明一实施方式的研磨层的制造方法的流程图。
图5A至图5C是图2的研磨层沿剖线I-I’的制造流程剖面图。
图6是本发明一实施方式的研磨方法的流程图。
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