[发明专利]氧化锆陶瓷及其制备方法

权利要求书

1.一种氧化锆陶瓷，其特征在于，按照质量百分比计，包括：94％～96％氧化锆，2.5％～3.5％的稳定剂，0.5％～3.5％的添加剂，其中，所述稳定剂选自Y₂O₃和CeO₂中的至少一种；所述添加剂选自Al₂O₃，TiO₂或SiO₂中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的氧化锆陶瓷，其特征在于，所述添加剂的含量为0.5％～2％。

3.一种氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供粉料：所述粉料，按质量百分比计，包括：94％～96％氧化锆，2.5％～3.5％的稳定剂，0.5％～3.5％的添加剂，其中，所述稳定剂选自Y₂O₃和CeO₂中的至少一种；所述添加剂选自Al₂O₃，TiO₂或SiO₂中的至少一种；

配制浆料：向所述粉料中加入溶剂、粘接剂、增塑剂和分散剂制备陶瓷浆料；

流延成型：将上述陶瓷浆料流延形成陶瓷膜片；

叠层：将流延成型的陶瓷膜片叠层形成预定厚度的陶瓷坯体；

脱脂：将所述陶瓷坯体置于高温环境中脱去有机物；

烧结：将经过脱脂的陶瓷坯体在高温下烧结并保温得到陶瓷烧结体。

4.根据权利要求3所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，所述添加剂的含量为0.5～2％。

5.根据权利要求3所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，所述粉料的粉体粒度为0.05～0.8μm，比表面积为5～15m²/g。

6.根据权利要求3所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，所述流延成型的陶瓷膜片厚度为30～300μm。

7.根据权利要求3所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，所述脱脂为：将所述陶瓷坯体置于排胶炉中在400℃～700℃的环境下进行脱脂。

8.根据权利要求3所述的氧化锆陶瓷的制备方法，其特征在于，所述烧结为在1200℃～1400℃环境中保温1～3h。