[发明专利]感光性树脂组合物及其应用有效
申请号: | 201710509058.2 | 申请日: | 2017-06-28 |
公开(公告)号: | CN107561860B | 公开(公告)日: | 2022-09-27 |
发明(设计)人: | 大内康秀;盐田大;石川达郎;黑子麻祐美 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/027 | 分类号: | G03F7/027;G03F7/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性 树脂 组合 及其 应用 | ||
1.感光性树脂组合物,其含有碱溶性树脂(A)、光聚合性单体(B)、光聚合引发剂(C)、和在1分子中具有多个环氧基的多官能交联性化合物(D),
所述碱溶性树脂(A)包含具有Cardo骨架的树脂,
所述多官能交联性化合物(D)的环氧当量为50~350g/eq,
所述多官能交联性化合物(D)包含每1分子具有3个以上环氧基的环氧化合物,
所述碱溶性树脂(A)与所述多官能交联性化合物(D)的质量比为8:1~2:1。
2.如权利要求1所述的感光性树脂组合物,所述感光性树脂组合物还含有遮光剂作为着色剂(E)。
3.如权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其中,所述具有Cardo骨架的树脂为下式(a-1)表示的树脂,
[化学式1]
式(a-1)中,Xa表示下述式(a-2)表示的基团,Ra0为氢原子或-CO-Ya-COOH表示的基团,Ya表示从二羧酸酐中除去酸酐基而得到的2价的残基,Za表示从四羧酸二酐中除去2个酸酐基而得到的4价的残基,另外,式(a-1)中,m1表示0~20的整数,
[化学式2]
所述式(a-2)中,Ra1各自独立地表示氢原子、碳原子数1~6的烃基、或卤素原子,Ra2各自独立地表示氢原子或甲基,Ra3各自独立地表示直链或支链的亚烷基,m2表示0或1,Wa表示下述式(a-3)表示的基团,
[化学式3]
所述式(a-3)中的环A表示脂肪族环,所述脂肪族环可稠合有芳香族环、可具有取代基。
4.如权利要求3所述的感光性树脂组合物,其中,所述四羧酸二酐为下式(a-4)表示的化合物,
[化学式4]
式(a-4)中,Ra4、Ra5、及Ra6各自独立地表示选自由氢原子、碳原子数1~10的烷基及氟原子组成的组中的1种,m3表示0~12的整数。
5.如权利要求1、2或4中任一项所述的感光性树脂组合物,其用于形成用于将有机EL元件中的发光层划区的隔堤。
6.固化膜,其是使权利要求1~4中任一项所述的感光性树脂组合物固化而形成的。
7.用于将有机EL元件中的发光层划区的隔堤,其是使权利要求5所述的感光性树脂组合物固化而形成的。
8.用于有机EL元件的基板,其具有权利要求7所述的隔堤。
9.有机EL元件,其具有权利要求7所述的隔堤。
10.固化膜的制造方法,所述方法包括下述工序:
通过涂布权利要求1~4中任一项所述的感光性树脂组合物,从而形成涂布膜的工序;
将所述涂布膜曝光的工序;和
将经曝光的所述涂布膜固化的工序。
11.如权利要求10所述的固化膜的制造方法,其中,
在进行曝光的所述工序中,位置选择性地将所述涂布膜曝光,
在进行曝光的所述工序与进行固化的所述工序之间,还包括将经曝光的所述涂布膜进行显影的工序。
12.在基板上制造用于将有机EL元件中的发光层划区的隔堤的方法,所述方法包括下述工序:
通过涂布权利要求5所述的感光性树脂组合物,从而在所述基板上形成涂布膜的工序;
位置选择性地将所述涂布膜中的与所述隔堤的位置对应的部位曝光的工序;
将经曝光的所述涂布膜显影的工序;和
将经显影的所述涂布膜固化的工序。
13.有机EL元件的制造方法,所述方法包括下述工序:在权利要求8所述的用于有机EL元件的基板中的由所述隔堤划分出的区域内形成发光层。
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