[发明专利]材料性能测试装置及制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及材料性能测试技术领域，特别是涉及一种材料性能测试装置及制作方法。

背景技术

LED(Light-Emitting Diode，发光二极管)已普遍应用在各行各业，随着技术的发展进步，相继出现了OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)和WOLED(White Organic Light-Emitting Diode，白光有机发光二极管)，目前LED、OLED和WOLED已经被广泛应用到各行各业，包括作为指示灯或者应用到台灯、电视机、显示面板、显示器中等，因此LED的发光效果尤为重要。

LED、OLED和WOLED在制作过程中需要用到一种像素定义材料，该材料的性能好坏直接关系到最终产品LED、OLED和WOLED的发光效果，特别是该材料的含氧量和含水量情况，因此对即将使用在LED、OLED和WOLED产品上的像素定义材料都需要检测。

制作材料检测装置的过程中首先在一基板上通过曝光显影蚀刻形成金属栅极，然后在基板上通过曝光显影形成一层彩色滤波层和/或绝缘层，以配合测试像素定义层材料。在彩色滤波层和/或绝缘层形成过程中，需要先在基板和金属栅极上整面涂覆有机光阻形成一层膜，然后通过曝光显影将金属栅极上的有机光阻材料及基板上多余的有机光阻材料去除，留下有用的部分形成彩色滤波片和/或绝缘层。由于有机光阻在金属上的附着力差，经常造成有机光阻膜破，影响有机光阻膜厚的均匀性，从而导致后续曝光显影后形成的彩色滤波片和/或绝缘层图案不理想，对测试装置的测试效果影响甚大。

发明内容

基于现有的材料检测装置存在有机光阻材料在金属上的附着力差，导致曝光显影后的彩色滤波片和/或绝缘层图案不理想的问题，本发明提供一种材料性能测试装置及制作方法。

本发明提供一种材料性能测试装置，用于测试材料的性能，包括：

基板；

金属栅极，设置于所述基板一侧；

辅助层，设置于所述金属栅极背对所述基板一侧；

功能层，包括有机光阻材料，设置在所述基板的具有所述金属栅极的一侧，所述功能层在形成过程中，所述有机光阻至少有一段时间附着在所述辅助层上，所述功能层用于配合发光器件检测材料的性能。

本发明还提供一种材料性能测试装置的制作方法，包括：

提供一基板；

在所述基板上沉积一层金属材料，通过曝光显影蚀刻得到金属栅极；

在所述基板及所述金属栅极上沉淀一层辅助材料，通过曝光显影蚀刻在所述金属栅极上得到辅助层；

在所述基板及所述金属栅极上沉淀一层有机光阻材料，通过曝光显影在所述基板的具有所述金属栅极的一侧形成功能层。

本发明的上述材料性能测试装置及制作方法在金属栅极表面上形成一辅助层，该辅助层为非金属材料，因此在制作功能层的过程中，有机光阻沉淀在基板和辅助层上，由于有机光阻在辅助层上的附着力强，因此沉淀的有机光阻膜均匀，进而使得在曝光显影后得到理想的功能层，进而保证材料性能测试装置的测试效果。

附图说明

图1是本发明材料性能测试装置一实施例的结构示意图；

图2是本发明材料性能测试装置另一实施例的结构示意图；

图3是本发明材料性能测试装置又一实施例的结构示意图；

图4是发明材料性能测试装置再一实施例的结构示意图；

图5是图4实施例对应的其他实施例中辅助孔结构示意图；

图6是本发明材料性能测试装置制作方法一实施例的流程示意图；

图7是本发明材料性能测试装置制作方法另一实施例的流程示意图；

图8是本发明材料性能测试装置制作方法又一实施例的流程示意图。

具体实施方式

下面结合附图详细讲解材料性能测试装置及该装置的制作方法。

参见图1，图1是本发明的材料性能测试装置一实施例的结构示意图，该材料性能测试装置包括基板100，设置在基板100一侧的金属栅极200，形成在金属栅极200背对基板100一侧的辅助层300，以及通过曝光显影形成在基板100具有金属栅极200的一侧上的功能层400。