[发明专利]含有胺化合物的铟电镀组合物和铟电镀方法

权利要求书

1.一种在镍上电镀铟的方法，其包含：

a)提供包含镍层的衬底；

b)使所述衬底与铟电镀组合物接触，所述组合物包含一或多种铟离子源、柠檬酸、其盐或其混合物和含量为5ppm到15ppm的具有下式的一或多种胺化合物：

其中R₁选自氢；(CH₂)_aNR₄R₅，其中R₄和R₅独立地选自氢和直链或分支链(C₁-C₄)烷基且a是整数1到4；(CH₂CHR₆-O)_xH或其盐，其中R₆选自氢或直链或分支链(C₁-C₄)烷基且x是整数1到20；羧基(C₁-C₄)烷基或其盐；或(CH₂CHR₆-O)_p(CH₂CHR₉-O)_xH或其盐，其中R₉是氢或直链或分支链(C₁-C₄)烷基；R₂选自氢；直链或分支链(C₁-C₄)烷基；(CH₂CHR₆-O)_yH或其盐，其中R₆如上文所定义且y是整数1到20；羧基(C₁-C₄)烷基或其盐；或(CH₂CHR₆-O)_q(CH₂CHR₁₀-O)_yH或其盐，其中R₁₀是氢或直链或分支链(C₁-C₄)烷基；R₃选自椰油烷基；R'-O-(CH₂)_m，其中R'选自氢、饱和或不饱和直链或分支链(C₁-C₂₀)烷基，m是整数1到4；(CH₂)_mNR₇R₈，其中R₇是(CH₂CHR₆-O)_p(CH₂CHR₉-O)_xH或其盐且R₈是(CH₂CHR₆-O)_q(CH₂CHR₁₀-O)_yH或其盐；且G是(CH₂CHR₆-O)_zH或其盐，其中z是整数1到20或→O且n是0或1，其中所述铟电镀组合物不含合金化金属；以及

c)利用所述铟电镀组合物在所述衬底的所述镍层上电镀铟金属层。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述铟电镀组合物进一步包含氯离子。

3.根据权利要求2所述的方法，其中氯离子与铟离子摩尔比是至少2:1。

4.根据权利要求2所述的方法，其中氯离子与铟离子摩尔比是2:1到7:1。