[发明专利]温敏响应高分子阵列的制备方法及其在样品预处理中的应用

权利要求书

1.温敏响应高分子阵列的应用，其特征在于，利用光影印技术和炔基与巯基的点击化学技术，在氧化铟锡玻片构建羟基亲水性微阵列；利用羟基与2-溴异丁酰溴间的共价反应形成原位自由基聚合反应的引发剂，再在溴化亚铜和2,2’-联吡啶的催化下，单体N-异丙基丙烯酰胺在氧化铟锡玻片表面聚合生成所述温敏反应高分子阵列，即高分子聚(N-异丙基丙烯酰胺)的可控亲水性阵列；所述温敏反应高分子阵列可通过温度转变自发进行表面除盐及样品富集，并用于对样品的预处理。

2.如权利要求1所述的应用，其特征在于，所述羟基亲水性微阵列的制备：1-硫代甘油通过光引发剂安息香二乙醚，使巯基与氧化铟锡玻片上的炔基共价结合，形成羟基亲水性微阵列。

3.如权利要求1所述的应用，其特征在于，利用表面原位生成的所述引发剂，在常温有机相条件下引发表面原子转移自由基聚合反应。

4.如权利要求1所述的应用，其特征在于，当低于临界温度时，所述温敏响应高分子阵列的亲水性作用使得样品汇聚在氧化铟锡玻片表面，而高于临界温度时，样品中蛋白质或肽段通过疏水作用与疏水性的所述温敏响应高分子阵列相吸附，而共存的盐和污染物则被冲走，从而实现样品靶上自除盐和高效富集，即完成对样品的预处理。

5.如权利要求1或4所述的应用，其特征在于，对样品的预处理包括如下步骤：

(1)将样品溶液滴在含所述高分子聚(N-异丙基丙烯酰胺)的可控亲水性阵列的氧化铟锡玻片上，并在60℃条件下温育30min-1h；

(2)用冲洗液对样品进行2-3次冲洗；将基质溶液滴在样品处，并在4℃下蒸干溶液；

(3)通过基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱进行信号采集，从质谱图中得到样品蛋白质或肽段信息。

6.如权利要求5所述的应用，其特征在于，所述样品溶液的体积为1μL；冲洗液为60℃超纯水，体积为2μL；基质溶液的配比如下：α-氰基-4-羟基肉桂酸固体溶解到含有体积百分数分别为50％的乙腈、0.01％的三氟乙酸和49.9％的超纯水的溶剂中，配成最终浓度为10mg/ml的溶液，体积为1μL。