[发明专利]减少衬底处理系统再循环的轴环、锥形喷头和/或顶板

权利要求书

1.一种衬底处理系统，其包括：

处理室；

喷头，其包括面板、杆部和圆柱形基部；

轴环，其将所述喷头连接到所述处理室的顶表面，

其中所述轴环限定接收二次吹扫气体的气体通道和沿着径向向外且向下的方向引导来自所述气体通道的所述二次吹扫气体的多个气体缝隙；以及

锥形表面，其被布置成邻近所述圆柱形基部并围绕所述喷头的所述杆部，

倒锥形表面，其与所述处理室的所述顶表面和侧壁相邻布置，其中所述倒锥形表面从与所述轴环相邻的顶表面径向向外延伸到所述侧壁，并且

其中所述锥形表面和所述倒锥形表面在所述锥形表面和所述倒锥形表面之间的第一间隙中限定成角度的气体通道，并且所述成角度的气体通道从所述轴环径向向外延伸至所述圆柱形基部的外边缘以及延伸至所述处理室的所述侧壁以在所述圆柱形基部的径向外部部分和所述处理室的所述侧壁之间限定第二间隙。

2.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述气体通道限定流动路径，所述流动路径具有恒定宽度并且平行于从所述多个气体缝隙流动的所述二次吹扫气体的方向。

3.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述锥形表面是中空的并且附接到所述喷头的所述杆部和所述圆柱形基部中的至少一个。

4.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中，所述锥形表面是实心的并且附接到所述喷头的所述杆部和所述圆柱形基部中的至少一个。

5.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述锥形表面与所述喷头的所述杆部和所述圆柱形基部中的至少一个成一体。

6.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述倒锥形表面是中空的并且附接到所述处理室的所述顶表面和所述侧壁中的至少一个。

7.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述倒锥形表面是实心的并且附接到所述处理室的所述顶表面和所述侧壁中的至少一个。

8.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述倒锥形表面与所述处理室的所述顶表面和所述侧壁中的至少一个成一体。

9.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中，所述锥形表面包括用于接收所述杆部的中心开口。

10.根据权利要求1所述的衬底处理系统，其中所述多个气体缝隙沿着所述轴环沿径向和轴向间隔开。

11.一种衬底处理系统，其包括：

处理室；

喷头，其包括面板、杆部和圆柱形基部；以及

轴环，其将所述喷头连接到所述处理室的顶表面，

其中所述轴环限定气体通道并且包括径向内表面、径向外表面和多个气体缝隙，

其中二次吹扫气体沿径向向外的方向从所述气体通道流动穿过所述气体缝隙，并且

其中所述径向内表面限定随着距所述圆柱形基部的轴向距离减小而单调增大的内径，

倒锥形表面，所述倒锥形表面与所述处理室的所述顶表面相邻布置，其中所述倒锥形表面将从所述气体缝隙流出的所述二次吹扫气体重新定向为沿着向下且向外的方向流动。

12.根据权利要求11所述的衬底处理系统，其中所述轴环的所述径向内表面和所述喷头的所述杆部限定在其间的气体通道。

13.根据权利要求11所述的衬底处理系统，其还包括间隔件，所述间隔件围绕所述杆部布置，以保持所述轴环相对于所述杆部的位置。

14.根据权利要求13所述的衬底处理系统，其中所述间隔件包括：

与所述圆柱形基部相邻布置的环形基部；以及

多个臂，其向上延伸以使所述轴环的所述径向内表面偏置。

15.根据权利要求11所述的衬底处理系统，其中所述多个气体缝隙沿所述轴环沿径向和轴向方向间隔开。