[发明专利]涂胶设备在审

专利信息
申请号: 201710513523.X 申请日: 2017-06-28
公开(公告)号: CN107215096A 公开(公告)日: 2017-09-29
发明(设计)人: 蔡丰豪;卢连杰;金东焕;金映秀;吴建霖;曹绪文 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: B41J2/01 分类号: B41J2/01;B41J3/407
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司44202 代理人: 郝传鑫,熊永强
地址: 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 涂胶 设备
【权利要求书】:

1.一种涂胶设备,其特征在于,包括承载基板的移动承载台、具有镂空图案的掩膜板、对位系统以及涂料喷头,所述掩膜板位于所述移动承载台上方与所述基板之间具有间隙,所述掩膜板在所述移动承载台的正投影完全覆盖所述基板,所述对位系统位于所述移动承载台上方掩膜板一侧,所述涂料喷头位于所述掩膜板正上方用于喷射涂料至掩膜板上。

2.如权利要求1所述的涂胶设备,其特征在于,所述涂胶设备包括承载框,所述承载框支撑于移动承载台的上方,所述承载框包括承载边,所述掩膜板的周边通过所述承载边支撑。

3.如权利要求2所述的涂胶设备,其特征在于,所述基板和所述掩模板有定位标记,用于所述基板和所述掩模板的对位。

4.如权利要求3所述的涂胶设备,其特征在于,所述定位标记为静态标记,或者为位置感应器。

5.如权利要求3所述的涂胶设备,其特征在于,所述移动承载台包括台板及支撑并带动台板移动的移动部,所述移动部带动台板相对所述掩膜板移动以实现所述基板与掩膜板的对位。

6.如权利要求5所述的涂胶设备,其特征在于,所述移动部包括滑轨及与滑轨配合的滑槽,所述台板支撑于所述滑轨或者滑槽上;或者,所述移动部包括丝杠及滑动设于丝杠的滑块,所述台板支撑于所述滑块上。

7.如权利要求1所述的涂胶设备,其特征在于,所述掩膜板上设有数个镂空区域构成的图案,所述涂料喷头对应镂空区域喷射的区域大于该镂空区域的尺寸。

8.如权利要求1所述的涂胶设备,其特征在于,通过调整所述间隙的尺寸调整所述掩膜板在所述基板上形成的图案的均一性。

9.如权利要求8所述的涂胶设备,其特征在于,所述涂料喷头喷射的涂料为油墨。

10.如权利要求2所述的涂胶设备,其特征在于,所述涂胶设备包括控制器,所述控制器连接对位系统、承载框及移动承载台,用于控制对位系统对位所述承载框上的掩膜板与移动承载台上的基板。

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