[发明专利]用于测量齿形旋转物体的周向齿形轮廓的方法和装置

权利要求书

1.一种用于准确测量齿形旋转物体(90)的内部或外部齿部的周向齿形轮廓(93)的至少一部分的方法，其中所述周向齿形轮廓出现在垂直于齿形旋转物体的中心旋转轴线(99)的横截面中，其中，相对于多对彼此相反的第一齿形侧面(91)和第二齿形侧面(92)，所述周向齿形轮廓具有多对彼此相反的第一轮廓侧面和第二轮廓侧面，分别对应于所述齿形的多个齿部(94)，该方法包括：

提供一种装置(1)，包括：

装置框架(2)，

保持结构(3)，其连接到所述装置框架并且被构造成能够有效保持齿形旋转物体(90)的状态，

追踪结构，其连接到所述装置框架并且包括第一示踪手指(11)和第二示踪手指(12)，其中所述第一示踪手指包括第一示踪斜面(21)和第一示踪点(31)，其中第一示踪手指的所述第一示踪斜面在其纵向方向上不对称地变窄直到所述第一示踪点，为第一示踪手指的自由端，其中所述第二示踪手指(12)包括第二示踪斜面(22)和第二示踪点(32)，其中第二示踪手指的所述第二示踪斜面在其纵向方向上不对称地变窄直到所述第二示踪点，为第二示踪手指的自由端，

驱动结构(4)，其被构造成在有效保持状态下，实现齿形旋转物体和第一示踪手指(11)之间的在围绕所述中心旋转轴的第一旋转方向(41)上的第一相对旋转，并实现在围绕所述中心旋转轴的第二旋转方向(42)上，齿形旋转物体和第二示踪手指(12)间的第二相对旋转，其中所述第一和第二旋转方向相互相反，

处理器(5)，基于在所述第一相对旋转期间相对于所述齿形旋转物体(90)检测到的所述第一示踪点(31)的第一相对位置与在所述第二相对旋转期间相对于所述齿形旋转物体(90)检测到的所述第二示踪点(32)的第二相对位置，处理器用于确定所述周向齿形轮廓的测量形状(6)，

执行第一个追踪阶段，在此期间，通过执行所述第一相对旋转，第一示踪手指(11)正在沿着所述周向齿形轮廓(93)进行跟踪，其中所述第一个追踪阶段包括：

第一个追踪子阶段，在此期间，第一示踪点(31)正在沿着至少所述第一轮廓侧面(91)进行跟踪，

第一个非追踪子阶段，在此期间，第一示踪点(31)被阻止沿着所述第二轮廓侧面(92)的至少一部分进行跟踪，在那里，第一示踪斜面(21)与所述齿形接触，

执行第二个追踪阶段，在此期间，通过执行所述第二相对旋转，第二示踪手指(12)正在沿着所述周向齿形轮廓(93)进行跟踪，其中所述第二个追踪阶段包括：

第二个追踪子阶段，在此期间，第二示踪点(32)正在沿着至少所述第二轮廓侧面(92)进行跟踪，

第二个非追踪子阶段，在此期间，第二示踪点(32)被阻止沿着所述第一轮廓侧面(91)的至少一部分进行跟踪，在那里，第二示踪斜面(22)与所述齿形接触，

基于在所述第一追踪子阶段期间检测到的所述第一相对位置，并且基于在所述第二追踪子阶段期间检测到的所述第二相对位置，由所述处理器(5)确定所述周向齿形轮廓(93)的所述测量形状(6)。

2.根据权利要求1所述的方法，其中：

追踪结构被配置用于实现，在所述第一追踪阶段期间，相对于所述齿形旋转物体(190)的中心旋转轴(199)，第一示踪手指具有沿着一维第一跟踪路径的一维追踪移动自由度，并且所述追踪结构是可调节的，用于调节所述一维第一跟踪路径相对于所述中心旋转轴(199)的方向(114，115)；

追踪结构被配置用于实现，在所述第二追踪阶段期间，相对于所述齿形旋转物体(190)的中心旋转轴(199)，第二示踪手指具有沿着一维第二跟踪路径的一维追踪移动自由度，并且所述追踪结构是可调节的，用于调节所述一维第二跟踪路径相对于所述中心旋转轴(199)的方向(114，115)。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中：

所述保持状态下的追踪结构是可调节的，用于调节相对于所述齿形旋转物体(290)，沿着齿形旋转物体(290)的所述中心旋转轴(299)的第一和第二示踪手指(211，212)的轴向跟踪位置，

对于所述齿形旋转物体(290)，该方法在相应的多个相互调节的所述轴向跟踪位置中执行多次，从而分别地确定所述测量形状中相应的多个不同的形状，相应的多个不同的所述周向齿形轮廓。