[发明专利]一种X射线荧光光谱分析方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种X射线荧光光谱分析方法，属于元素分析设备技术领域。

背景技术

任何元素的原子都是由原子核和绕核运动的电子组成，原子核外电子按其 能量的高低分层分布而形成不同的能级，因此，一个原子核可以具有多种能级 状态。能量最低的能级状态称为基态能级，其余能级称为激发态能级，能量最 低的激发态则称为第一激发态。正常情况下，原子处于基态，核外电子在各自 能量最低的轨道上运动。如果将一定外界能量如光能提供给该基态原子，当外 界光能量E恰好等于该基态原子中基态和某一较高能级之间的能级差△E时，该 原子将吸收这一特征波长的光，外层电子由基态跃迁到相应的激发态，形成原 子吸收光谱。电子跃迁到较高能级以后处于激发态，但激发态电子是不稳定的， 经过一较短时间后，激发态电子将返回基态或其它较低能级，并将电子跃迁时 所吸收的能量以光的形式释放出去，这个过程形成原子发射光谱。可见原子吸 收光谱过程吸收辐射能量，而原子发射光谱过程则释放辐射能量。X-射线荧光 光谱分析仪的分析原理是：光源发射出原级X-射线，该射线照射样品，待测元 素的原子吸收相应的能量形成激发态，外层电子向低能级电子层跃迁，同时发 射出次级X-射线，即X-射线荧光，以释放能量，通过探测器检测X-射线荧光的 强度，进而求得待测元素的含量。

现有技术中X射线荧光光谱分析仪，X射线源通常设置在底端，正对样品， 此时，用于拍摄样品的摄像头就必须倾斜设置，倾斜设置的摄像头拍摄的样品 图像必然会出现失真，如梯形失真等，导致无法正确识别出样品待检测部位的 中心，也就无法给样品调整到正确位置提供正确的图像指示。

发明内容

本发明要解决的技术问题是：为解决X射线荧光光谱分析仪中摄像头拍摄 样品图像失真的技术问题，提供一种位置定位精确的X射线荧光光谱分析方法。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

本发明提供一种X射线荧光光谱分析方法，

使用XRF样品检测装置，XRF样品检测装置包括，

样品台，中间设置有样品检测孔；

检测仓，密封设置在样品台底部，一侧安装有观察窗；

X射线源，设置在检测仓底部，X射线源的X射线发射管沿竖直方向布置；

探测器，设置在检测仓另一侧，用于探测样品发出的二次X射线；

摄像头，镜头对准观察窗；

准直部件，包括，设置在检测仓外的电机；设置在检测仓底部的导轨；设 置导轨上的准直块；准直块上设置有反射镜和至少一个竖直布置的准直孔，准 直块能够在直线电机的驱动下沿导轨运动；

包括以下步骤：

S1：将样品放置在样品台上，样品对准检测孔；

S2：通过电机调节准直块上的反射镜位置，使摄像头经反射镜能拍摄到样 品台上样品；

S3：根据摄像头拍摄到的图像调节样品的位置，使样品上的检测区域位于 检测孔中心；

S4：通过电机调节准直块位置，使准直块上的准直孔处于X射线源与检测 孔之间，准直孔为多个时，还需要根据检查区域的大小选择准直孔的孔径；

S5：启动X射线源和探测器，完成对样品的X射线荧光光谱分析。

优选地，本发明的X射线荧光光谱分析方法，准直孔为成一列排布的若干 个，准直孔孔径为0.1mm-5mm之间的任意值，在S4步骤中，还需要根据检查区 域的大小选择准直孔的孔径。

优选地，本发明的X射线荧光光谱分析方法，准直孔为7个，孔径分别为 0.1mm、0.2mm、0.5mm、1mm、2mm、5mm、5mm。

优选地，本发明的X射线荧光光谱分析方法，样品被放置在真空仓内，调 节完样品的位置后，还包括密封真空仓，对真空仓进行抽真空的步骤。

优选地，本发明的X射线荧光光谱分析方法，真空仓进行抽真空后真空仓 内部压力为5-50pa。

优选地，本发明的X射线荧光光谱分析方法，检测孔处还设置有mylar膜。

本发明的有益效果是：

本发明的X射线荧光光谱分析方法中X射线源设置在检测仓底部，X射线源 发射的X射线以垂直角度照射到样品上，提高了检测精度。同时，通过设置具 有反射镜的准直部件，在需要通过摄像头观察样品位置时，通过直线电机使准 直块处于观察位置，此时可通过摄像头观察样品，且拍摄的图像不产生变形失 真，产品成像和位置的调整更为精确。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。