[发明专利]可编程可抹除的非挥发性存储器有效

专利信息
申请号: 201710521061.6 申请日: 2017-06-30
公开(公告)号: CN108695337B 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 黎俊霄;陈纬仁;陈学威 申请(专利权)人: 力旺电子股份有限公司
主分类号: H01L27/11558 分类号: H01L27/11558;H01L29/788;H01L21/336;G11C16/04
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 可编程 挥发性 存储器
【权利要求书】:

1.一种可编程可抹除的非挥发性存储器,包括:

第一晶体管,具有选择栅极连接至一字符线,第一掺杂区域连接至一源极线,以及第二掺杂区域;

第二晶体管,具有该第二掺杂区域;第三掺杂区域,连接至一位线;以及浮动栅极;

抹除栅区域,连接至一抹除线,其中该浮动栅极延伸至抹除栅区域上方;以及

金属层,位于该浮动栅极上方,且该金属层位于该浮动栅极与位线之间;

其中,该位线经由穿透洞接触于该金属层与该第三掺杂区域。

2.如权利要求1所述的非挥发性存储器,其中,该第一晶体管与该第二晶体管都为n型晶体管,该第一掺杂区域、该第二掺杂区域与该第三掺杂区域都为n型掺杂区域。

3.如权利要求2所述的非挥发性存储器,其中,该第一n型晶体管与该第二n晶体管是制作于一p型阱区内,且该p型阱区位于一p型基板上。

4.如权利要求2所述的非挥发性存储器,其中,该第一n型晶体管与该第二n晶体管是制作于一p型阱区内,且该p型阱区与一p型基板之间包括一深n型阱区。

5.如权利要求3所述的非挥发性存储器,其中于一编程动作时,提供一第一电压至该p型阱区、该源极线,提供一编程电压至该位线与该抹除线,提供一开启电压至该字符线,使得多个电子注入该浮动栅极。

6.如权利要求3所述的非挥发性存储器,其中于一抹除动作时,提供一第一电压至该p型阱区、该源极线与该位线,提供一抹除电压至该抹除线,提供一关闭电压至该字符线,使得多个电子退出该浮动栅极。

7.如权利要求3所述的非挥发性存储器,其中于一读取动作时,提供一第一电压至该p型阱区、该源极线与该抹除线,提供一读取电压至该位线,提供一开启电压至该字符线,使得一读取电流流向该源极线。

8.如权利要求1所述的非挥发性存储器,其中,该浮动栅极的一第一部分覆盖于该抹除栅区域,该浮动栅极的一第二部分覆盖于该第二晶体管的一通道区域,且该第一部分的面积与该第二部分的面积的比例介于1/4与2/3之间。

9.如权利要求1所述的非挥发性存储器,其中于该金属层的面积大于该浮动栅极的面积。

10.一种可编程可抹除的非挥发性存储器,包括:

选择晶体管,具有栅极端连接至一字符线,第一漏/源端连接至一源极线,以及第二漏/源端;

浮动栅晶体管,具有第一漏/源端连接至该选择晶体管的该第二漏/源端,第二漏/源端连接至一位线,以及浮动栅极;

第一电容器,连接至该浮动栅极与一抹除线之间;以及

金属层;

其中,该金属层与该浮动栅极形成第二电容器,且该位线经由穿透洞接触于该金属层与该浮动栅晶体管的第二漏/源端。

11.如权利要求10所述的非挥发性存储器,其中,该选择晶体管与该浮动栅晶体管都为n型晶体管,且该选择晶体管与该浮动栅晶体管是制作于一p型阱区内。

12.如权利要求11所述的非挥发性存储器,其中于一编程动作时,提供一第一电压至该p型阱区、该源极线,提供一编程电压至该位线与该抹除线,提供一开启电压至该字符线,使得多个电子注入该浮动栅极。

13.如权利要求11所述的非挥发性存储器,其中于一抹除动作时,提供一第一电压至该p型阱区、该源极线与该位线,提供一抹除电压至该抹除线,提供一关闭电压至该字符线,使得多个电子退出该浮动栅极。

14.如权利要求11所述的非挥发性存储器,其中于一读取动作时,提供一第一电压至该p型阱区、该源极线与该抹除线,提供一读取电压至该位线,提供一开启电压至该字符线,使得一读取电流流向该源极线。

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