[发明专利]一种纳米银导电膜及其制备方法

权利要求书

1.一种纳米银导电膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：在基材表面形成聚多巴胺功能表层；

S2：选取一定图形的光掩膜，对所述多巴胺功能表层进行光照刻蚀；

S3：涂覆银纳米线/硝酸银溶液，反应后，在所述基材表面原位形成银纳米线/银纳米颗粒网络结构，其中，所述银纳米线/硝酸银溶液中，银纳米线的质量分数为0.1～5％，硝酸银的质量分数为0.1～5％；所述银纳米线和所述硝酸银的质量比为1:1.5～2；且银纳米线的直径为40～50nm，长径比为15～30；

S4：清洗干燥，得到图形化纳米银导电膜。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，S1步骤中，将所述基材浸入含多巴胺的碱性水溶液中进行反应，以形成所述聚多巴胺功能表层。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述碱性水溶液中，所述多巴胺的浓度为0.01～5g/L，所述碱性水溶液的pH值为7.5～12。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，S1步骤中，所述基材在所述碱性水溶液中的反应时间为1～48h。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，S2步骤中，使用紫外光源进行光照刻蚀，所述紫外光源的波长为200～450nm、功率为100W ～25kW 。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，S2步骤中，光照刻蚀的时间为5～120min。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，S3步骤中，采用喷涂法、旋涂法或浸渍法进行涂覆所述银纳米线/硝酸银溶液的操作，涂覆后，反应0.5～5h，以形成所述银纳米线/银纳米颗粒网络结构。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述基材选自玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯和聚二甲基硅氧烷中的一种。

9.一种纳米银导电膜，其特征在于，根据权利要求1～8任意一项所述的制备方法制备得到。