[发明专利]具有隔板的增强用膜在审
申请号: | 201710521337.0 | 申请日: | 2017-06-30 |
公开(公告)号: | CN107553995A | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | 佐佐木翔悟;设乐浩司;徐创矢;越智元气 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | B32B7/12 | 分类号: | B32B7/12;B32B7/06;B32B33/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 肖靖泉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 隔板 增强 | ||
技术领域
本发明涉及具有隔板的增强用膜。
背景技术
为了赋予光学部件、电子部件等以刚性或抗冲击性,在一些情况下预先将具有隔板的增强用膜贴合至光学部件、电子部件等的暴露的表面侧以对这样的部件进行增强(日本专利申请未审公开No.2014-234460)。
然而,当将隔板从贴合至光学部件、电子部件等的暴露的表面侧的具有隔板的增强用膜剥离时,出现如下问题:发生剥离起电而导致对光学部件或电子部件的损害。
发明内容
本发明的一个目的是提供具有隔板的增强用膜,其包括增强用膜和隔板,所述具有隔板的增强用膜具有以下特征:在剥离隔板时可发生的剥离起电可被抑制;和即使当将隔板从预先贴合至光学部件、电子部件等的暴露的表面侧的具有隔板的增强用膜剥离时,也可减轻对光学部件或电子部件的损害。
根据本发明的一个实施方式的具有隔板的增强用膜包括:增强用膜P;和隔板Q,其中:增强用膜P包括基材层A1和粘合剂层A2;隔板Q包括抗静电脱模层B和基材层B3;粘合剂层A2和抗静电脱模层B直接层叠;和当在23℃的温度和50%RH的湿度下以150°的剥离角度和10m/min的剥离速率将隔板Q从增强用膜P剥离时,粘合剂层A2的表面具有10kV或更低的剥离起电电压,并且抗静电脱模层B的表面具有5.0kV或更低的剥离起电电压。
在一个实施方式中,当在23℃的温度和50%RH的湿度下以150°的剥离角度和10m/min的剥离速率将隔板Q从增强用膜P剥离时,抗静电脱模层B的表面具有1.0×104Ω-1.0×1012Ω的表面电阻值。
在一个实施方式中,抗静电脱模层B包含导电聚合物。
在一个实施方式中,抗静电脱模层B包括脱模层B1和抗静电层B2,粘合剂层A2和脱模层B1直接层叠,和当在23℃的温度和50%RH的湿度下以150°的剥离角度和10m/min的剥离速率将隔板Q从增强用膜P剥离时,脱模层B1的表面具有5.0kV或更低的剥离起电电压。
在一个实施方式中,在根据本发明实施方式的具有隔板的增强用膜中,当在23℃的温度和50%RH的湿度下以150°的剥离角度和10m/min的剥离速率将隔板Q从增强用膜P剥离时,脱模层B1的表面具有1.0×104Ω-1.0×1012Ω的表面电阻值。
在一个实施方式中,抗静电层B2包含导电聚合物。
在一个实施方式中,增强用膜P以所陈述的顺序包括抗静电层A3、基材层A1、和粘合剂层A2。
在一个实施方式中,隔板Q以所陈述的顺序包括抗静电脱模层B、基材层B3、和抗静电层B4。
在一个实施方式中,抗静电层B4包含导电聚合物。
在一个实施方式中,在根据本发明实施方式的具有隔板的增强用膜中,在已经在23℃的温度和50%RH的湿度下以150°的剥离角度和10m/min的剥离速率将隔板从增强用膜P剥离之后,在23℃的温度、50%RH的湿度、180°的剥离角度、和300mm/min的拉伸速率下粘合剂层A2对玻璃板的初始粘合强度为1.0N/25mm或更大。
在一个实施方式中,在根据本发明实施方式的具有隔板的增强用膜中,当在23℃的温度和50%RH的湿度下以180°的剥离角度和300mm/min的拉伸速率下将隔板Q从增强用膜P剥离时的剥离强度为0.30N/25mm或更小。
根据本发明,可提供这样的具有隔板的增强用膜,其包括增强用膜和隔板,所述具有隔板的增强用膜具有以下特征:在剥离隔板时可发生的剥离起电可被抑制;和即使当将隔板从预先贴合至光学部件、电子部件等的暴露的表面侧的具有隔板的增强用膜剥离时,也可减轻对光学部件或电子部件的损害。
附图说明
图1为增强用膜P的一个实施方式的示意性截面图。
图2为增强用膜P的另一实施方式的示意性截面图。
图3为隔板Q的一个实施方式的示意性截面图。
图4为隔板Q的另一实施方式的示意性截面图。
图5为本发明的具有隔板的增强用膜的一个实施方式的示意性截面图。
图6为本发明的具有隔板的增强用膜的另一实施方式的示意性截面图。
图7为本发明的具有隔板的增强用膜的另一实施方式的示意性截面图。
图8为本发明的具有隔板的增强用膜的另一实施方式的示意性截面图。
具体实施方式
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