[发明专利]一种反力外引机构、电机装置以及光刻机在审
申请号: | 201710524606.9 | 申请日: | 2017-06-30 |
公开(公告)号: | CN109212909A | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 王保亮;杨辅强;朱岳彬 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 地基 反力 工件台 掩模台 光刻机 运动台 主基板 主吊 电机装置 照明单元 减振器 设计制造难度 投影物镜 整机框架 整机振动 开发 | ||
1.一种反力外引机构,其特征在于,包括依次连接的反力外引支架、反力衰减单元和震动源转接单元,所述震动源转接单元与一震动源相连,所述反力外引支架与地基相连,所述反力外引机构用于将所述震动源的震动力削减。
2.根据权利要求1所述的反力外引机构,其特征在于,所述反力衰减单元包括连接块、反力外引阻尼单元、反力外引弹簧单元和转接臂,所述连接块与所述支架转接单元连接,所述反力外引阻尼单元的两端分别与所述连接块和所述震动源转接单元连接。
3.根据权利要求2所述的反力外引机构,其特征在于,所述反力外引弹簧单元通过弹簧导向柱安装于所述连接块上。
4.根据权利要求2所述的反力外引机构,其特征在于,所述反力外引弹簧单元通过预紧安装架安装于所述转接臂上。
5.一种装有如权利要求1-4任一项所述反力外引机构的电机装置,其特征在于,包括所述反力外引机构、地基、支撑框架、运动模块,所述反力外引机构与所述运动模块和所述地基相连,减少所述运动模块对所述支撑框架的震动。
6.根据权利要求5所述的电机装置,其特征在于,所述运动模块包括定子和动子,所述反力外引机构与所述定子相连。
7.一种光刻机,包括照明单元、掩模台、投影物镜、主基板、工件台和地基,其特征在于,所述照明单元和掩模台设于所述主基板上,所述地基上方设有主吊框,所述工件台和主基板设于所述主吊框上,所述主吊框和地基之间设有减振器,所述工件台的其中一侧与所述地基之间和/或所述掩模台的其中一侧与所述地基之间设有反力外引机构。
8.根据权利要求7所述的光刻机,其特征在于,所述主基板上设有照明支架,所述照明单元设于所述照明支架上。
9.根据权利要求8所述的光刻机,其特征在于,所述照明支架的侧面设有吸振装置。
10.根据权利要求9所述的光刻机,其特征在于,所述吸振装置包括吸振装置支板、吸振块和吸振装置阻尼单元,所述吸振装置支板水平固定在照明支架的侧面,所述吸振装置阻尼单元与所述照明支架的侧面贴紧,所述吸振块底部通过顶丝支承在所述吸振装置支板上,吸振块的侧面通过吸振装置预紧螺钉、吸振装置弹簧单元和吸振装置阻尼单元固定在照明支架的侧面。
11.根据权利要求7所述的光刻机,其特征在于,所述主基板上设有掩模台支架,所述掩模台设于所述掩模台支架上。
12.根据权利要求11所述的光刻机,其特征在于,所述掩模台支架上还设有掩模台测量系统。
13.根据权利要求7所述的光刻机,其特征在于,所述地基与所述反力外引机构之间设有反力外引支架。
14.根据权利要求13所述的光刻机,其特征在于,还包括与所述工件台连接的工件台驱动电机以及与所述掩模台连接的掩模台驱动电机,所述反力外引机构其中一端与所述工件台驱动电机或掩模台驱动电机连接,另一端与反力外引支架连接。
15.根据权利要求14所述的光刻机,其特征在于,所述反力外引机构包括依次连接的支架转接单元、解耦单元、反力衰减单元和震动源转接单元,所述支架转接单元与所述反力外引支架连接,所述震动源转接单元还与所述工件台驱动电机或掩模台驱动电机连接。
16.根据权利要求15所述的光刻机,其特征在于,所述反力衰减单元包括连接块、反力外引阻尼单元、反力外引弹簧单元和转接臂,所述连接块与所述支架转接单元连接,所述反力外引阻尼单元的两端分别与所述连接块和震动源转接单元连接,所述反力外引弹簧单元的两端分别与所述连接块和转接臂连接,所述转接臂的另一端与震动源转接单元连接。
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