[发明专利]一种纯结晶型祛痘氨基酸洁面膏及其制备方法

说明书

本发明公开了一种纯结晶型祛痘氨基酸洁面膏及其制备方法。本发明的温和易铺展使用纯结晶型祛痘氨基酸洁面膏是由下述原料制成：1)占组分含量15～40％的表面活性剂，其为阴离子表面活性剂，两性离子表面活性剂，非离子表面活性剂中两种或两种以上的混合物；2)占组分含量5～30％的保湿剂；3)占组分含量1～8％的调理剂；4)占组分含量1～15％的祛痘组合物；5)占组分含量0.1～0.5％的香精；6)加去离子水至100％。各组分均为质量百分比。本发明产品质量稳定、易铺展使用、弱酸性、温和、清洁力强，使用后，干净不干涩不紧绷，大幅提升产品用后使用感受。

技术领域

本发明涉及一种洁面组合物，属于日化产品领域，具体涉及一种纯结晶型祛痘氨基酸洁面膏。

背景技术

随着城市化进程的加剧，消费者越来越重视高质、便捷、安全、健康，长期饱受压力及城市化污染，消费者特别期望温和的产品，据统计60％以上的消费者感觉自身属于敏感肌，皮肤自我保护功能脆弱，因此选择产品特别是洁面产品，非常关注产品是否来源天然，温和不伤皮肤。现阶段，氨基酸体系的洁面产品是洁肤里面相对来说安全、温和的产品。

中国专利CN 106491381A：提供一种结晶型温和纯氨基酸洁面膏，它结晶型的纯氨基酸体系，呈弱酸性，泡沫丰富，深层清洁脸部肌肤的同时不紧绷，长期使用不伤害皮肤，达到温和洁面的效果。其主要通过添加丙烯酸(酯)类共聚物提高产品的稳定性，添加氨基酸保湿剂增加产品的保湿性能。

中国专利CN201110001976：一种氨基酸型弱酸性洁面膏及其制备方法，提供一种所含为全天然氨基酸型表面活性剂、不含皂质的氨基酸型弱酸性洁面膏，以温和清除各种污垢的同时，维护肌肤的弱酸性环境，并在皮肤表层形成保护膜，从而达到维护肌肤健康的目的。

上述专利，主要是以氨基酸表面活性剂为清洁剂，通过复配调节配方pH到弱酸性，使得产品酸碱度与人体皮肤酸碱度一致，从而提高产品温和性；并添加适量的氨基酸或甘油等保湿剂起到调理肌肤的作用。用丙烯酸类共聚物作稳定剂，易引入风险物质，这样容易造成冲洗不干净，对皮肤带来负面影响。

此外，上述专利并未考虑氨基酸洁面产品的铺展使用性，表面活性剂残留等问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种纯结晶型祛痘氨基酸洁面膏，其采用复配技术，确保产品低结晶温度高温稳定，同时易铺展使用，表面活性剂残留低，更具有祛痘功效。

本发明的另一目的在于提供一种不含丙烯酸类共聚物的高温稳定的氨基酸的洁面膏的制备方法。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种纯结晶型祛痘氨基酸洁面膏，以质量百分比计，包含以下各组分：

1)占组分含量15～40％的表面活性剂，所述表面活性剂阴离子表面活性剂，两性离子表面活性剂，非离子表面活性剂中两种或两种以上的混合物；

2)占组分含量5～30％的保湿剂；

3)占组分含量1～8％的调理剂；

4)占组分含量1～15％的祛痘组合物；

5)占组分含量0.1～0.5％的香精；

6)加去离子水至100％。

本发明的纯结晶型祛痘氨基酸洁面膏，所述表面活性剂为氨基酸表面活性剂和非离子表面活性剂两者的混合物。