[发明专利]一种高纯硅生产用多级粉碎装置在审

专利信息
申请号: 201710530935.4 申请日: 2017-07-03
公开(公告)号: CN107127039A 公开(公告)日: 2017-09-05
发明(设计)人: 余水金;汪天培 申请(专利权)人: 福建泰达高新材料有限公司
主分类号: B02C21/00 分类号: B02C21/00;B02C19/22;B02C19/00;B02C23/00
代理公司: 北京天奇智新知识产权代理有限公司11340 代理人: 曾捷
地址: 353399 福建省三*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 高纯 生产 多级 粉碎 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及高纯硅生产技术领域,具体为一种高纯硅生产用多级粉碎装置。

背景技术

目前,高纯硅的制备一般首先由硅石(SiO2)制得工业硅(粗硅),再制成高纯的多晶硅,最后拉制成半导体材料硅单晶,其中工业硅生产工艺过程是:将粗硅粉碎后,依次用盐酸、王水、(HF+H2SO4)混合酸处理,最后用蒸馏水洗至中性,烘干后可得含量为99.9%的工业粗硅,在对粗硅粉碎的一操作中,普遍粉碎装置大多数为单个设置,再运输到另一个打磨操作进行打磨,这不仅费时费力,还严重影响到工作效率,且普遍的粉碎装置结构单一,不能调节成品的颗粒大小,即成品粒径大小的不可控性。

发明内容

本发明解决的技术问题在于克服现有技术的费时费力、效率低、成品粒径大小不可控等缺陷,提供一种高纯硅生产用多级粉碎装置。所述高纯硅生产用多级粉碎装置具有省时省力、效率高、成品粒径大小可控性等特点。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种高纯硅生产用多级粉碎装置,包括操作台,所述操作台顶端分别设有第一电机、第一粉碎箱和第二粉碎箱,且所述第一电机、第一粉碎箱和第二粉碎箱分别通过支撑架固定连接在操作台顶端,所述第一电机位于第一粉碎箱左侧,所述第一粉碎箱远离第一电机的一侧设有第二粉碎箱,所述第一粉碎箱顶端设有进料口,所述第二粉碎箱底端设有出料口。

优选的,所述第一粉碎箱包括螺杆和若干个凸块,所述第一电机的电机轴贯穿第一粉碎箱侧壁,且延伸至第一粉碎箱内腔与螺杆固定连接,若干个所述凸块固定连接在第一粉碎箱内壁。

优选的,所述第二粉碎箱包括第二电机,所述第二电机靠近螺杆的一侧设有磨轮,所述磨轮靠近螺杆的一侧设有若干个打磨条,且所述第二电机的电机轴插接在磨轮内腔,所述第二电机远离磨轮的一侧固定连接有轴承,所述轴承内腔插接有螺纹杆,所述第二粉碎箱远离第一粉碎箱的一侧设有开孔,所述第二粉碎箱外侧边缘固定连接有螺母,且所述螺母与开孔处于一水平线上,所述螺纹杆远离轴承一端贯穿开孔和螺母,且延伸至第二粉碎箱外侧,所述螺纹杆与螺母通过螺纹活动连接,所述第二粉碎箱内腔左侧靠近底端处设有与磨轮相互配合的固定台,所述第二电机底端固定连接有固定块,所述固定块通过活动装置活动连接在第二粉碎箱内腔底端。

优选的,所述活动装置包括凹槽、滑轨和滑槽,所述第二粉碎箱内腔底端设有凹槽,所述凹槽内腔设有若干个滑轨,所述固定块远离第二电机的一侧设有若干个与滑轨相互匹配的滑槽。

优选的,所述打磨条在磨轮一侧呈环形阵列状排列。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明装置在工作时,物料从进料口进入第一粉碎箱内,第一电机带动螺杆转动,物料到达螺杆上方时,螺杆的转动,可带动物料向第二粉碎箱处移动,同时使得物料在第一粉碎箱内壁摩擦,且第一粉碎箱内壁凸块的设置,使得螺杆外侧边缘与第一粉碎箱内壁之间的距离各不相同,进而使得物料得到粉碎,粉碎后的物料经由螺杆的转动,到达磨轮底端与固定台的空隙处,第二电机带动磨轮转动,磨轮上打磨条不停的刮擦空隙处的物料,粉碎后的物料经过出料口到达外侧,在这里,第二粉碎箱内部的磨轮与固定台之间的空隙可调,即物料的粒径大小可控制,在调节磨轮的过程中,通过转动螺纹杆,因螺母固定连接在第二粉碎箱一侧,螺纹杆会相对螺母左右移动,螺纹杆在轴承内腔转动,在螺纹杆左右移动的同时,带动第二电机移动,第二电机底端的固定块上设有的滑槽,在第二粉碎箱底端的滑轨上移动,该装置的两组打磨操作一体化,无需操作人员的运输,即带来了装置的省时省力的特点,进而带来装置的工作效率高的特点,调节磨轮一操作,带来装置成品粒径大小可控性等特点。

附图说明

图1为本发明剖视图。

图2为本发明部件打磨条的侧视图。

图3为本发明部件活动装置的放大图。

图中标号:1、操作台,2、第一电机,3、第一粉碎箱,4、第二粉碎箱,5、螺杆,6、进料口,7、凸块,8、磨轮,9、第二电机,10、固定块,11、打磨条,12、固定台,13、轴承,14、螺纹杆,15、螺母,16、出料口,17、活动装置,18、凹槽,19、滑轨,20、滑槽。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

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