[发明专利]一种磁屏蔽片叠层的制作方法有效
申请号: | 201710532685.8 | 申请日: | 2017-07-03 |
公开(公告)号: | CN107146708B | 公开(公告)日: | 2018-12-14 |
发明(设计)人: | 徐勇攀;赵安平;李家洪;刘开煌 | 申请(专利权)人: | 深圳市信维通信股份有限公司 |
主分类号: | H01F41/02 | 分类号: | H01F41/02;C09D133/00;C09D175/14;C09D183/04;C09D7/00 |
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地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 屏蔽 片叠层 制作方法 | ||
本发明提供了一种磁屏蔽片叠层的制作方法,包括:首先,带状叠层经过第一组辊压轮后,进行上涂料处理;其次,经过上涂料处理后的带状叠层通过第二组辊压轮进行辊压处理,在带状叠层上形成涂料层;最后,通过第二组辊压轮后的带状叠层与磁性卷材一同进入第三组辊压轮进辊压处理,将涂料层压制于磁性卷材和带状叠层之间,形成磁屏蔽片叠层。本发明采用特定配比的涂料,通过喷涂、涂刷、浸泡的方式,在非晶及纳米晶材料的表面形成一层极薄的粘附层,然后再通过层压的方式堆叠软磁材料,并最终形成磁屏蔽片叠层。与现有技术相比,本发明不但能够改善屏蔽片的性能,不产生多余的废料;而且还能够降低目前屏蔽片的厚度和生产成本。
技术领域
本发明涉及磁屏蔽片叠层,具体涉及的是一种磁屏蔽片叠层的制作方法,主要用于无线充电领域中的磁屏蔽片叠层。
背景技术
非晶及纳米晶材料作为一种新型软磁材料,在无线充电领域作为磁屏蔽材料得到应用。常规屏蔽片的结构为叠层结构,磁性材料和双面胶相互堆叠。该结构操作简单,方便连续化生产,但是这种叠层结构,需要使用大量双面胶,使得双面胶占据了大部分的生产成本,随着需求端对屏蔽片厚度的要求越来越薄,而这种双面胶的厚度越薄成本也越高,这就给屏蔽片的生产成本带来巨大的压力,此外这种双面胶在使用过程中还会产生大量多余的离型膜废料,无形中影响了工厂的有序化生产。
发明内容
为此,本发明的目的在于提供一种生产成本低、屏蔽片厚度薄以及性能好且不产生多余废料的磁屏蔽片叠层制作方法。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的。
一种磁屏蔽片叠层的制作方法,其特征在于,包括:
首先,带状叠层经过第一组辊压轮后,进行上涂料处理;
其次,经过上涂料处理后的带状叠层通过第二组辊压轮进行辊压处理,在带状叠层上形成涂料层;
最后,通过第二组辊压轮后的带状叠层与磁性卷材一同进入第三组辊压轮进辊压处理,将涂料层压制于磁性卷材和带状叠层之间,形成磁屏蔽片叠层。
优选地,所述带状叠层由PET膜及位于PET膜表面的非晶或纳米晶带材构成。
优选地,带状叠层经过第一组辊压轮后,通过喷枪将特定配比涂料对应喷涂于非晶或纳米晶带材的表面上,形成厚度为0.1~20μm的涂料层。
优选地,带状叠层经过第一组辊压轮后,通过涂料刷将特定配比涂料对应刷在非晶或纳米晶带材的表面上,形成厚度为0.1~20μm的涂料层。
优选地,带状叠层经过第一组辊压轮后,使带状叠层经过内置有特定配比涂料的浸漆槽,在非晶或纳米晶带材的表面上形成厚度为0.1~20μm的涂料层。
本发明采用特定配比的涂料,通过喷涂、涂刷、浸泡的方式,在非晶及纳米晶材料的表面形成一层极薄的粘附层,然后再通过层压的方式堆叠软磁材料,并最终形成磁屏蔽片叠层。与现有技术相比,本发明不但能够改善屏蔽片的性能,不产生多余的废料;而且还能够降低目前屏蔽片的厚度和生产成本。
附图说明
图1为本发明采用喷涂层压的流程示意图;
图2为本发明采用涂刷层压的流程示意图;
图3为本发明采用浸泡层压的流程示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
实施例一
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