[发明专利]一种大产量低成本生产氧化亚硅的汽化沉积设备在审
申请号: | 201710535539.0 | 申请日: | 2017-07-04 |
公开(公告)号: | CN107176609A | 公开(公告)日: | 2017-09-19 |
发明(设计)人: | 张元友 | 申请(专利权)人: | 山西科德技术陶瓷有限公司 |
主分类号: | C01B33/113 | 分类号: | C01B33/113 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 030401 山西省太*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 产量 低成本 生产 氧化 汽化 沉积 设备 | ||
1.一种大产量低成本生产氧化亚硅的汽化沉积设备,其特征在于:它由炉窖、沉积反应器、蓄热体、烧嘴、风管、鼓风机、换向阀和引风机构成;所述的炉窖由炉墙和炉顶构成;四周炉墙的顶部设有炉顶;炉墙上设有烧嘴和与之配套的蓄热体;所述的烧嘴上连接有风管,风管与鼓风机和引风机连接,鼓风机和引风机之间的连接风管上设有换向阀;所述的沉积反应器插设在炉窖内;所述的沉积反应器由沉积反应器物料反应段和沉积反应器产品沉积段构成;沉积反应器物料反应段与沉积反应器产品沉积段焊接连接,且沉积反应器产品沉积段的外部套设有冷却水套,物料设置在沉积反应器物料反应段内;所述的沉积反应器物料反应段设置在炉窖的内部,所述的沉积反应器产品沉积段设置在炉窖的外部。
2.根据权利要求1所述的一种大产量低成本生产氧化亚硅的汽化沉积设备,其特征在于:所述的炉墙上设有数个开孔;所述的沉积反应器横插在开孔内,其中沉积反应器物料反应段设置在炉墙的内侧,且架设在炉底反应器支撑砖上,该炉底反应器支撑砖设置在四周炉墙所围成空间的底部,沉积反应器产品沉积段露设在炉墙的外部。
3.根据权利要求2所述的一种大产量低成本生产氧化亚硅的汽化沉积设备,其特征在于:所述的沉积反应器呈单面单排、单面双排、双面单排或者双面双排的形式横插在炉墙上。
4.根据权利要求1所述的一种大产量低成本生产氧化亚硅的汽化沉积设备,其特征在于:所述的炉顶上设有数个开孔;所述的沉积反应器竖插在开孔内,其中沉积反应器物料反应段设置在炉顶的内侧,沉积反应器产品沉积段露设在炉顶的外部。
5.根据权利要求4所述的一种大产量低成本生产氧化亚硅的汽化沉积设备,其特征在于:所述的沉积反应器物料反应段的内部设有耐高温提兜;物料设置于耐高温提兜内。
6.根据权利要求5所述的一种大产量低成本生产氧化亚硅的汽化沉积设备,其特征在于:所述的耐高温提兜的筒壁开设有孔,该孔为圆孔、方孔或者不规则孔。
7.根据权利要求4所述的一种大产量低成本生产氧化亚硅的汽化沉积设备,其特征在于:所述的沉积反应器物料反应段的内部设有耐高温中心管,物料设置在耐高温中心管与沉积反应器物料反应段之间的夹层内;所述的沉积反应器物料反应段的下端露设在炉底外部,且其外部设有下冷却水套,最下端设有下出口法兰。
8.根据权利要求7所述的一种大产量低成本生产氧化亚硅的汽化沉积设备,其特征在于:所述的耐高温中心管的筒壁开设有孔,该孔为圆孔、方孔或者不规则孔。
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