[发明专利]一种减反射结构的制备方法和减反射结构在审
| 申请号： | 201710536611.1 | 申请日： | 2017-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN107140842A | 公开（公告）日： | 2017-09-08 |
| 发明（设计）人： | 周婷婷;张斌 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 刘悦晗,陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 反射 结构 制备 方法 | ||
1.一种减反射结构的制备方法，其特征在于，包括：
将多个颗粒与聚合物溶液混合；
在基板上涂覆所述混合有多个颗粒的聚合物溶液；
对所述混合有多个颗粒的聚合物溶液进行固化，以形成聚合物薄膜，所述颗粒裸露于所述聚合物薄膜之外。
2.根据权利要求1所述的减反射结构的制备方法，其特征在于，通过旋涂工艺在所述基板上涂覆所述混合有多个颗粒的聚合物溶液。
3.根据权利要求1所述的减反射结构的制备方法，其特征在于，所述对所述混合有多个颗粒的聚合物溶液进行固化，具体包括：
对所述混合有多个颗粒的聚合物溶液进行加热、低压或紫外光照处理。
4.一种减反射结构，形成在基板上，其特征在于，包括形成在所述基板上的掺杂有多个颗粒的聚合物薄膜，所述颗粒裸露于所述聚合物薄膜之外。
5.根据权利要求4所述的减反射结构，其特征在于，所述颗粒为纳米粒子。
6.根据权利要求5所述的减反射结构，其特征在于，所述颗粒的裸露于所述聚合物薄膜之外的部分的体积，在邻近所述聚合物薄膜的方向上逐渐增大。
7.根据权利要求6所述的减反射结构，其特征在于，所述颗粒的形状为以下形状之一或任意组合：球形、半球形、圆锥和圆台。
8.根据权利要求6所述的减反射结构，其特征在于，所述颗粒裸露于所述聚合物薄膜之外部分的排布周期为200-1000nm。
9.根据权利要求4所述的减反射结构，其特征在于，所述聚合物薄膜的材料为透明材料。
10.根据权利要求4所述的减反射结构，其特征在于，所述颗粒的材料为金属、金属氧化物和有机化合物中的一种或多种。
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