[发明专利]显示面板及其制造方法、取向层涂覆装置、显示装置在审
申请号: | 201710539063.8 | 申请日: | 2017-07-04 |
公开(公告)号: | CN107092142A | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 张伟;周纪登;刘幸一 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/1345;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138 | 代理人: | 滕一斌 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 及其 制造 方法 取向 层涂覆 装置 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域,特别涉及一种显示面板及其制造方法、取向层涂覆装置、显示装置。
背景技术
液晶显示装置(Liquid Crystal Display,LCD)因其机身薄、省电、无辐射等优点得到了广泛应用。示例的,如液晶电视、移动电话、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。
液晶显示装置的显示面板包括彩膜基板,与彩膜基板相对设置的阵列基板,以及填充于彩膜基板和阵列基板之间的液晶层。参见图1,彩膜基板的形成过程主要为:在第一衬底基板1上依次形成红绿蓝(red-green-blue,RGB)树脂层2、平坦层3、聚酰亚胺(polyimide,PI)涂覆层7和隔垫物4;阵列基板的形成过程主要为:在第二衬底基板0001上依次形成栅线9、栅绝缘层8、氧化铟锡(Indium Tin Oxide,ITO)层6和PI涂覆层7。其中,彩膜基板和阵列基板中的PI涂覆层7仅形成在衬底基板的显示区域,且PI涂覆层是通过感光性树脂(英文名称:Asahikasei Photosensitive Resin,缩写:APR)版形成在衬底基板上的。图2示出了被切割前多个显示面板的俯视图,图2中,14为第二衬底基板,15为PI涂覆层,11为第一显示面板,12为待切割的外围区域,13为第二显示面板。参见图2,外围区域12没有设置PI涂覆层,所以显示区域的界面介质与外围区域的界面介质不同。图1中,11为第一显示面板,12为外围区域,13为第二显示面板,10为框胶。
相关技术为了使彩膜基板和阵列基板中的PI涂覆层具有液晶分子取向的功能,常常对PI涂覆层进行辊印(rubbing)操作,形成取向膜。在辊印过程中,会对PI涂覆层和外围区域同时摩擦。而由于显示区域的界面介质与外围区域的界面介质不同,所以很容易使外围区域上出现因摩擦而产生的颗粒(图2中用18来标识该颗粒),尤其是外围区域靠近显示区域的位置易出现颗粒。进一步的,在清洗辊印后的彩膜基板和阵列基板时,外围区域上的颗粒可能会进入显示区域,导致取向膜被划伤,显示面板边缘产生白mura(mura为云纹,白mura指的是发白光,亮度不均匀)现象(图2中用17来标识该现象),显示效果较差。
发明内容
为了解决相关技术中显示面板边缘产生白mura现象,显示效果较差的问题,本发明实施例提供了一种显示面板及其制造方法、取向层涂覆装置、显示装置。所述技术方案如下:
第一方面,提供了一种显示面板的制造方法,所述方法包括:
在第一衬底基板的显示区域,非显示区域,以及外围区域形成第一取向层;
对形成在所述第一衬底基板上的所述第一取向层进行辊印操作,形成第一取向膜;
在第二衬底基板的显示区域,非显示区域,以及外围区域中除目标区域之外的区域形成第二取向层,所述目标区域用于设置与驱动电路电连接的引线;
对形成在所述第二衬底基板上的所述第二取向层进行辊印操作,形成第二取向膜;
对对盒成型后的所述第一衬底基板和所述第二衬底基板进行切割得到所述显示面板。
可选的,所述在第一衬底基板的显示区域,非显示区域,以及外围区域形成第一取向层,包括:
在所述第一衬底基板的显示区域,非显示区域中除第一指定区域之外的区域,以及外围区域形成所述第一取向层,所述第一指定区域为围绕所述第一衬底基板的显示区域的环形区域,所述第一指定区域位于所述第一衬底基板的框胶设置区域内;
所述在第二衬底基板的显示区域,非显示区域,以及外围区域中除目标区域之外的区域形成第二取向层,包括:
在所述第二衬底基板的显示区域,非显示区域中除第二指定区域之外的区域,以及外围区域中除所述目标区域之外的区域形成所述第二取向层,所述第二指定区域为围绕所述第二衬底基板的显示区域的环形区域,所述第二指定区域位于所述第二衬底基板的框胶设置区域内。
可选的,所述在第一衬底基板的显示区域,非显示区域,以及外围区域形成第一取向层,包括:
在所述第一衬底基板上依次形成彩色像素树脂层和平坦层;
在形成有所述平坦层的第一衬底基板上形成所述第一取向层;
所述在第二衬底基板的显示区域,非显示区域,以及外围区域中除目标区域之外的区域形成第二取向层,包括:
在所述第二衬底基板上依次形成栅线、栅绝缘层和像素电极层;
在形成有所述像素电极层的第二衬底基板上形成所述第二取向层。
可选的,所述在第一衬底基板的显示区域,非显示区域,以及外围区域形成第一取向层,包括:
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