[发明专利]一种低折射率蒸镀材料的制备方法

权利要求书

1.一种低折射率蒸镀材料的制备方法，其特征在于：具有如下步骤：

(1)、准备配料，将原料SiO₂和Al₂O₃按重量比(1-X):X配料，其中X＝1～40wt％；

(2)、配料混合，将步骤(1)中的配料放入行星球磨机，同时加入两毫米氧化锆研磨球和水，在行星球磨机中水为混合介质对配料进行湿法球磨工艺，料球比为10:1～20:1，球磨时间为5～10h；

(3)、浆料烘干，将步骤(2)球磨后制成的浆料在100～150℃将浆料烘干，然后在200～400℃煅烧粉体，制备成复合粉体；

(4)、压片成型，将步骤(3)制成的复合粉体中加入粘结剂混合均匀后，在压片机上压制成型，压片压力控制在100～200Mpa，制备成片状坯体；

(5)、烧结体制备，将步骤(4)制成的片状坯体放入烧结炉中，升温速率为2～10℃/min，升温至500℃～600℃保温2～6h进行排胶，然后升温至1300℃～1600℃保温5～8h，然后以5～10℃/min的降到室温，获得高致密的氧化硅氧化铝烧结体；

(6)、清洗包装，将步骤(5)制成的烧结体初步清理干净后，放入超声波清洗机中清洗处理，然后烘干，包装。

2.根据权利要求1所述的低折射率蒸镀材料的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中原料SiO₂纯度在99.9％以上，Al₂O₃纯度在99.9％以上。

3.根据权利要求1所述的低折射率蒸镀材料的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中X＝1～10wt％。

4.根据权利要求1所述的低折射率蒸镀材料的制备方法，其特征在于：所述步骤(4)中粘结剂为10wt％PVA。