[发明专利]押元结构和基板承载装置

说明书

本发明提供一种押元结构，用于夹持基板，所述基板包括相对设置的上表面和下表面以及连接在所述上表面和所述下表面之间的侧面，所述押元结构包括多个夹持部，多个所述夹持部用于环绕被夹持的基板设置并与该被夹持的基板的侧面相对，所述押元结构还包括第一驱动模块，该第一驱动模块用于驱动每个所述夹持部朝向或远离所述被夹持的基板移动。相应地，本发明还提供一种基板承载装置。本发明能够提高基板上成膜的均一性。

技术领域

本发明涉及显示产品的制作领域，具体涉及一种押元结构和基板承载装置。

背景技术

在显示产品的制作过程中，通常采用采用磁控溅射的方式在基板上镀膜。在磁控溅射的过程中，基板固定在基板承载装置上，靶材与所述基板相对设置。其中，所述基板承载装置包括押元结构、托盘、支撑柱，支撑柱穿过托盘以支撑基板，押元结构环绕基板设置，以对基板进行夹持固定。押元结构对基板的施力直接影响着基板的平整度，从而影响了镀膜的均一性，影响产品品质。

另外，对于尺寸较大的基板，溅射的靶材一般采用多条相对独立靶材拼接的方式设计，靶材之间存在间隙。在溅射成膜时，基板上与靶材相对的位置形成的膜层较厚，而与靶材之间的间隙相对的位置形成的膜层较薄，从而也会影响镀膜的均一性。

因此，如何提高溅射镀膜的均一性成为本领域亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种押元结构和基板承载装置，以提高成膜的均一性。

为了解决上述技术问题之一，本发明提供一种押元结构，用于夹持基板，所述基板包括相对设置的上表面和下表面以及连接在所述上表面和所述下表面之间的侧面，所述押元结构包括多个夹持部，多个所述夹持部用于环绕被夹持的基板设置并与该被夹持的基板的侧面相对，所述押元结构还包括第一驱动模块，该第一驱动模块用于驱动每个所述夹持部朝向或远离所述被夹持的基板移动。

优选地，所述夹持部用于朝向所述被夹持的基板的一侧设置有第一压力检测层，该第一压力检测层用于检测所述夹持部与所述被夹持的基板之间的压力；

所述第一驱动模块用于根据所述第一压力检测层检测到的压力驱动所述夹持部朝向或远离所述被夹持的基板移动，以使每个所述第一压力检测层检测到的压力均处于相应的预定压力范围内。

优选地，所述押元结构还包括弯曲度检测器件，所述弯曲度检测器件用于检测所述被夹持的基板的弯曲度；

所述第一驱动模块还用于根据所述弯曲度检测器件检测到的弯曲度驱动所述夹持部移动，直至所述弯曲度检测器件检测到的弯曲度处于预定弯曲度范围内。

优选地，所述押元结构还包括支架，该支架设置在所述夹持部下方，

所述第一驱动模块包括第一控制器和与所述夹持部一一对应的第一磁性组件，所述第一磁性组件包括磁极相对设置的第一磁体和第二磁体，其中，

所述第一磁体固定设置在所述支架上；所述第二磁体位于所述夹持部下方，且所述第二磁体与所述夹持部保持相对固定并能够与所述支架发生相对移动；所述第一磁体和所述第二磁体中至少一者的磁性大小可调，所述第一控制器用于调节所述第一磁体和所述第二磁体中磁性可调的一者或两者的磁性大小。

优选地，所述押元结构还包括与所述夹持部一一对应相连的支撑部，所述支撑部包括用于与所述被夹持的基板的下表面接触的支撑面，所述支撑面上设置有第二压力检测层，所述第二压力检测层用于检测所述支撑部与所述被夹持的基板之间的压力；

所述押元结构还包括第二驱动模块，该第二驱动模块用于根据所述第二压力检测层检测到的压力驱动所述支撑部沿所述被夹持的基板的厚度方向移动，直至任意两个所述第二压力检测层检测到的压力之差均不大于预定压力差。