[发明专利]一种硅基激光器及其制造方法、光模块有效

专利信息
申请号: 201710547808.5 申请日: 2017-07-06
公开(公告)号: CN107221836B 公开(公告)日: 2020-02-28
发明(设计)人: 隋少帅 申请(专利权)人: 青岛海信宽带多媒体技术有限公司
主分类号: H01S5/04 分类号: H01S5/04;H01S5/10
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 266555 山东省青*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 激光器 及其 制造 方法 模块
【权利要求书】:

1.一种制造硅基激光器的方法,其特征在于,包括:

在绝缘衬底上的硅的顶部的硅层上形成二氧化硅层;

对所述二氧化硅层进行刻蚀将硅微型谐振腔、硅波导以及硅反射镜的图形转移到所述二氧化硅层上;

以所述二氧化硅层为掩膜层对所述绝缘衬底上的硅顶部的硅层刻蚀第一厚度;所述第一厚度为形成所述硅反射镜的布拉格光栅的深度;

在所述硅反射镜对应的位置处涂覆光刻胶形成保护层;

以所述二氧化硅层和所述保护层为掩膜层对所述绝缘衬底上的硅顶部的硅层刻蚀第二厚度;所述第二厚度为所述绝缘衬底上的硅顶部硅层的厚度与所述第一厚度的差;

去除所述二氧化硅层和所述保护层;

在所述硅波导上键合用于向所述硅波导提供光的光芯片。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述硅波导上键合用于向所述硅波导提供光的光芯片,包括:

在所述硅波导上制作键合层;

连接三五族直接带隙半导体增益芯片的接触层与所述键合层;

去除所述三五族直接带隙半导体增益芯片的衬底露出所述三五族直接带隙半导体增益芯片的欧姆接触层;

将所述三五族直接带隙半导体增益芯片的N型电极区域刻蚀至接触层;

在所述欧姆接触层上制作P型电极接触层以及在所述接触层上制作N型电极接触层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于青岛海信宽带多媒体技术有限公司,未经青岛海信宽带多媒体技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710547808.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top