[发明专利]一种吸膜及热熔机构以及绝缘膜上料、热熔和转移机构

权利要求书

1.一种吸膜及热熔机构，其特征在于：用于对绝缘膜进行取料并在热熔工位将绝缘膜和托片进行热熔，其包括综合模组和用于放置待热熔绝缘膜的置膜平台，所述综合模组在绝缘膜料堆和热熔工位之间移动，所述综合模组包括吸膜机构、热熔机构和升降机构，所述吸膜机构包括取料机构，用于绝缘膜的分片取料；所述升降机构包括伺服电机和升降模组，所述吸膜机构和所述热熔机构均安装在升降模组上，所述升降模组用于对所述吸膜机构和热熔机构进行升降；

所述置膜平台包括一对平板和一个托片承载台，所述一对平板放置于同一平面上并分别位于所述托片承载台的两侧，所述平板的上表面用于放置绝缘膜，所述平板的上表面排布设置有若干真空孔，所述真空孔与真空气源连通，所述托片承载台上设置有定位块，所述定位块用于定位托片。

2.根据权利要求1所述的吸膜及热熔机构，其特征在于：所述吸膜机构还包括承载板，所述取料机构上设置有取料吸盘组机构，所述取料吸盘组机构包括若干弹性吸盘，所述弹性吸盘排布并固定在所述承载板上，所述承载板固定于所述升降模组上。

3.根据权利要求2所述的吸膜及热熔机构，其特征在于：所述吸膜机构还包括探针组，所述探针组包括若干排布并固定在所述承载板上的探针。

4.根据权利要求1所述的吸膜及热熔机构，其特征在于：所述热熔机构包括热熔汽缸、热熔器和热熔器载板，所述热熔汽缸将热熔器载板伸出或收回，所述热熔器固定设置在所述热熔器载板上。

5.根据权利要求4所述的吸膜及热熔机构，其特征在于：所述热熔器包括热熔头和压缩弹簧，所述压缩弹簧两端分别抵靠热熔器载板和热熔头。

6.根据权利要求1所述的吸膜及热熔机构，其特征在于：所述托片承载台上还设置有倒模机构，所述倒模机构包括倒模块和倒模汽缸，所述倒模汽缸将倒模块伸出或收回。

7.一种绝缘膜上料、热熔和转移机构，其特征在于：包括托片上料机构、第一移动机构、热熔载台、热熔载台移载机构、第二移动机构和权利要求1-6任一项所述的吸膜及热熔机构，所述托片上料机构通过所述第一移动机构进行移动，所述热熔载台通过所述热熔载台移载机构进行移动，所述第二移动机构用于移动所述吸膜及热熔机构。