[发明专利]光罩、形成间隔物结构的方法以及形成液晶面板的方法

说明书

本发明公开了一种光罩、对应的间隔物结构及应用其的液晶面板。光罩包括一第一开口区以及一第二开口区。第一开口区与第二开口区分别具有长度与宽度的比值或长轴与短轴的比值大于或等于1.25的几何形状，且第一开口区的面积大于第二开口区的面积。

技术领域

本发明是有关于一种光罩、对应的间隔物结构及应用其的面板，且特别是有关于一种用以形成间隔物的光罩、对应的间隔物结构及应用其的液晶面板。

背景技术

传统的间隔物的制作方法，是以灰阶光罩(gray tone mask) 或以半色调网点光罩(halftone mask)的开口率来定义曝光能量。灰阶光罩利用光通过开口(或狭缝)时产生绕射现象，来降低有效曝光能量，且不同尺寸及数量的开口(或狭缝)对应的曝光能量也不同，藉此来制造不同高度的间隔物，简称为多尺寸间隔物(multi photo spacer, MPS)。此外，半色调网点光罩藉由涂布在图案上的铬膜的厚度来控制穿透光的强度比例，使穿透光的曝光能量产生差异，进而制造出不同高度的间隔物。然而，灰阶光罩与半色调网点光罩的制作成本高且图案设计困难，无法降低制造成本。

发明内容

本发明是有关于一种光罩、对应的间隔物结构及应用其的液晶面板，其中光罩用以制作与光罩开口的长度与宽度的比值或长轴与短轴的比值相对应的间隔物，以达到制造不同高度的间隔物的目的，并具有良好的均一性与重现性。

根据本发明的一方面，提出一种光罩，包括一第一开口区以及一第二开口区。第一开口区与第二开口区分别具有长度与宽度的比值或长轴与短轴的比值大于或等于1.25的几何形状，且第一开口区的面积大于第二开口区的面积。

根据本发明的一方面，提出一种利用上述的光罩所形成的间隔物结构，包括一第一间隔物以及一第二间隔物。第一间隔物具有与第一开口区的长度与宽度的比值或长轴与短轴的比值相对应的几何形状，第二间隔物具有与第二开口区的长度与宽度的比值或长轴与短轴的比值相对应的几何形状，且第一间隔物与第二间隔物之间具有一高度差。

根据本发明的一方面，提出一种具有上述的间隔物结构的液晶面板，包括一薄膜电晶体阵列基板、一液晶层以及一彩色滤光片基板，其中第一间隔物与第二间隔物设置于彩色滤光片基板上，用以间隔薄膜电晶体阵列基板与彩色滤光片基板。

以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1A绘示依照本发明一实施例的用以形成间隔物的光罩的示意图。

图1B绘示感光材料经曝光后形成间隔物的示意图。

图1C绘示经显影后的间隔物的侧视图。

图1D绘示依照本发明一实施例的具有间隔物结构的液晶面板的简易示意图。

图2A绘示依照本发明一实施例的用以形成间隔物的光罩的示意图。

图2B绘示经显影后的间隔物的侧视图。

图3A及图3B分别绘示另一实施例的光罩的开口区的示意图。

图4绘示间隔物的尺寸与高度差的关系表。

其中，附图标记

100、101、100’、100”：光罩

100a：短边

100b：长边

102、104、106、108：第一开口区

103、105、107、109：第二开口区

110：基板

111：感光材料

112、114：第一间隔物