[发明专利]一种激光晶体双面抛光装置有效
申请号: | 201710553508.8 | 申请日: | 2017-07-08 |
公开(公告)号: | CN107584407B | 公开(公告)日: | 2019-02-19 |
发明(设计)人: | 王海波;杨利涛 | 申请(专利权)人: | 合肥嘉东光学股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/08 | 分类号: | B24B37/08;B24B37/28;B24B37/34;B24B27/00;B24B29/02;B24B47/12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 激光 晶体 双面 抛光 装置 | ||
本发明公开了一种激光晶体双面抛光装置,它包括下抛光盘、游星轮、上抛光、铁笔,所述下抛光盘抛光基体上粘有一层抛光垫,中心设置有塔形齿轮,塔形齿轮由上方的大齿轮和下方的小齿轮构成,所述游星轮放置在下抛光盘上,且游星轮的外齿轮与下抛光盘的小齿轮啮合,游星轮的上方中心还设置有一个凸出轴,所述上抛光盘的下方中心设置有中心孔,上方中心设置有铁笔孔,所述中心孔与游星轮的凸出轴相配合,所述铁笔孔上插有铁笔,所述上抛光盘的外齿轮与下抛光盘的大齿轮连接。本发明可进行零件上下表面同时抛光,同时抛光使整盘零件的厚度相同、平面度高、平行度高,提高抛光盘的吻合性、提高软材料抛光后的光洁度。
技术领域
本发明涉及光学零件抛光装置技术领域,具体为一种激光晶体双面抛光装置。
背景技术
目前的平行精度高的平板光学零件抛光方式主要有两种。
1、光胶上盘单面抛光:零件抛光一面后再光胶上盘,精磨抛光另一面,光胶上盘对抛光人员技能要求高,加工中要修正平行、平面度、反复进行检测、抛光效率低、易损作表面、不良品率高,人工成本高,由于不良品率高,需要多次返修,生产周期和生产成本高。
2、使用专用的双面抛光机双面抛光:专用的双面抛光机只适合批量抛光硬质材料的平行零件,当抛光零件数量少时需要用同材质同规格的零件配盘,对于贵重材料浪费很大,对于软材质的零件,抛光表面光洁度很差,很难达到产品的要求。
发明内容
本发明的目的在于提供一种生鲜色选机消毒净化装置,以解决上述背景技术中提出的问题,本发明可产生等离子体,可杀灭多种病源微生物和霉菌真菌、吸附灰尘,对生鲜物起到消毒毒净化的作用,减少了筛选操作时间,为生鲜物品保险争取了更多的时间。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
它包括下抛光盘、游星轮、上抛光盘、铁笔,所述下抛光盘包括抛光基体、抛光垫、大齿轮、小齿轮,所述抛光基体上粘有一层抛光垫,中心设置有塔形齿轮,塔形齿轮由上方的大齿轮和下方的小齿轮构成,所述游星轮放置在下抛光盘上,且游星轮的外齿轮与下抛光盘的小齿轮啮合,游星轮的上方中心还设置有一个凸出轴,所述上抛光盘的下方中心设置有中心孔,上方中心设置有铁笔孔,所述中心孔与游星轮的凸出轴相配合,所述铁笔孔上插有铁笔,所述上抛光盘的外齿轮与下抛光盘的大齿轮连接。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
本发明可进行零件上下表面同时抛光,同时抛光使整盘零件的厚度相同、平面度高、平行度高,提高抛光盘的吻合性、提高软材料抛光后的光洁度,在不用光胶上盘可以一次抛光少量的产品,保证产品的平面度达到λ/10、平行度5秒、光洁度10-5,合格率达到95%以上,抛光软材质的光洁度20-10合格率达到90%以上。
附图说明
图1为本发明下抛光盘的结构示意图;
图2为本发明游星轮的结构示意图;
图3为本发明上抛光盘的结构示意图;
图4为本发明的整体结构示意图;
图5为本发明双面抛光加工示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
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