[发明专利]曝光装置、曝光方法以及物品制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，在使基板和原版移动的同时针对每个被摄区域对所述基板进行扫描曝光，所述曝光装置的特征在于，具有：

整形部，对曝光所述被摄区域的曝光光进行整形；

照明部，调整所述曝光光的光量分布；以及

控制部，控制所述整形部及所述照明部，

所述控制部控制所述照明部，以使在所述被摄区域内在非扫描方向上分离的第一区域以及第二区域各自的累计的曝光量分布相等，

所述控制部控制所述整形部，以使所述被摄区域中的扫描方向的累计曝光量均匀。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述照明部具有：

第一光源，在所述非扫描方向上以第一曝光量分布射出对所述被摄区域进行曝光的光束；以及

第二光源，在所述非扫描方向上以第二曝光量分布射出对所述被摄区域进行曝光的光束，

所述控制部单独地控制所述第一光源以及所述第二光源的输出，使所述被摄区域中的所述非扫描方向的曝光量分布按照一次曲线状变化。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

所述照明部具有光学元件，该光学元件使所述被摄区域中的所述非扫描方向的曝光量分布按照二次曲线状变化。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述整形部配置于与所述原版以及所述基板在光学上共轭的位置，使所述扫描方向的所述曝光光的宽度变化。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述曝光装置具有：第一遮光部，能够在所述被摄区域内进退以对所述第一区域的所述曝光光的一部分进行遮光；以及第二遮光部，能够在所述被摄区域内进退以对所述第二区域的所述曝光光的一部分进行遮光，

对于第一被摄区域和在所述非扫描方向上与所述第一被摄区域邻接的第二被摄区域，进行将所述第一被摄区域的所述第一区域和所述第二被摄区域的所述第二区域重叠的接合曝光。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，

所述第一遮光部以及所述第二遮光部配置于与所述原版以及所述基板在光学上共轭的位置的附近。

7.一种曝光方法，在使基板和原版移动的同时针对每个被摄区域对所述基板进行扫描曝光，所述曝光方法的特征在于，

调整对所述被摄区域进行曝光的曝光光的光量分布，以使在所述被摄区域内在非扫描方向上分离的第一区域以及第二区域各自的累计的曝光量分布相等，

对所述曝光光进行整形，以使所述被摄区域中的扫描方向的累计曝光量均匀。

8.一种物品的制造方法，其特征在于，具有：

使用权利要求1至6中的任意一项所述的曝光装置在基板上形成图案的工序；以及

对通过所述工序形成了所述图案的所述基板进行处理的工序，

从被处理的基板得到物品。