[发明专利]一种氮化铝陶瓷基板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710559883.3 申请日: 2017-07-11
公开(公告)号: CN107188568A 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 曹永革;麻朝阳;文子诚 申请(专利权)人: 中国人民大学
主分类号: C04B35/581 分类号: C04B35/581;C04B35/622;C04B35/638;C04B35/64;B28B1/29;B28B11/24;B28B17/02
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司11245 代理人: 关畅,王春霞
地址: 100872 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 氮化 陶瓷 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种氮化铝陶瓷基板及其制备方法,属于材料领域。

背景技术

氮化铝(AlN)陶瓷具有优良的导热性能,优异的物理化学稳定性,且无毒、绝缘,热膨胀系数与硅(Si)相近,是高密度电子封装的理想基板材料,特别是在高功率高能量密度LED照明领域有着巨大的应用前景。国内外很多研究单位和公司都在开发或已开发出高导热AlN基板,工业生产中的AlN产品热导率(理论值320W/(m·K))一般在200W/(m·K)以下。目前,AlN陶瓷的成型方法有有机流延成型、干压成型和热压成型等,干压成型与热压成型适于制备厚度1mm及以上的陶瓷基板,而对于制备1mm厚度以下的陶瓷基板用流延成型最为合适。

流延成型AlN工艺采用有机溶剂基质,且多含苯和酮等有毒害的溶剂,对人体以及环境造成危害。

发明内容

本发明的目的是提供一种氮化铝陶瓷基板及其制备方法,本发明以无苯、无酮、无毒的有机溶剂来流延成型氮化铝,通过添加烧结助剂,能在比较低的温度下烧结成氮化铝陶瓷基板。

本发明提供的一种氮化铝陶瓷流延浆料,它包括如下组分:固体粉末、分散剂、溶剂、增塑剂、粘结剂和脱泡剂;

所述固体粉末包括氮化铝粉体和烧结助剂。

上述的流延浆料中,所述氮化铝粉体的纯度为99%~99.9%;

所述氮化铝粉体的平均粒径可为1~2μm。

上述的流延浆料中,所述分散剂、所述增塑剂、所述粘结剂、所述脱泡剂与所述固体粉末的质量比可为1~10:1~20:5~15:0.1~3:100,具体可为3.5~5:4~12:8~11:0.7~1.5:100。

上述的流延浆料中,所述溶剂选自乙酸乙酯、异丙醇、无水乙醇和乙酸丙酯中的至少一种;

所述流延浆料中固含量可为55~60%,具体可为58%。

本发明中,所述固含量指的是固体总质量占固体和液体总质量的百分数。

上述的流延浆料中,所述分散剂选自磷酸三乙酯、聚乙二醇和油酸中的至少一种;

所述增塑剂选自聚烷撑乙二醇(简称PAG)、邻苯二甲酸丁基苄酯(简称BBP)、甘油三醋酸酯和环氧油酸丁酯中至少一种;

所述粘结剂选自聚乙烯醇缩丁醛(简称PVB)、聚乙烯醇和乙基纤维素中的至少一种;

所述脱泡剂选自乙二醇和/或正丁醇。

上述的流延浆料中,所述烧结助剂选自三氧化二钇、三氧化二铝、氟化钇、氟化钙、碳酸钙、碳酸锂、二氧化硅和硼酸中的至少一种;

所述烧结助剂与氮化铝粉末的质量比可为0.1~10:100,具体可为5.14:100、5.44:100、5.75:100、4.5~6.5:100或3~8:100。

本发明中,所述氮化铝、所述三氧化二钇、所述三氧化二铝、所述氟化钇、所述二氧化硅、所述碳酸锂、所述硼酸、所述氟化钙和所述碳酸钙的英文简称分别为AlN、Y2O3、Al2O3、YF3、SiO2、Li2CO3、H3BO3、CaF2和CaCO3

本发明所述氮化铝陶瓷流延浆料应用于制备氮化铝陶瓷基板中。

本发明还提供了一种氮化铝陶瓷基板的制备方法,包括如下步骤:

1)首次球磨:将所述的流延浆料中的所述氮化铝粉体、所述烧结助剂、所述分散剂、所述溶剂混合后进行首次球磨;

2)二次球磨:将步骤1)所得的混合物与所述的流延浆料中的所述增塑剂、所述粘结剂、所述脱泡剂混合进行二次球磨,得到混合浆料;

3)真空除泡:将步骤2)得到的所述混合浆料真空脱泡进行除泡;

4)步骤3)脱泡后的所述混合浆料经流延平铺在膜带上加热,放置晾干,然后从膜带上剥离得到氮化铝流延薄片;

5)叠层压片:将步骤4)得到的所述氮化铝流延薄片裁剪,然后叠层,进行温等静压,得到氮化铝生坯;

6)排胶:将步骤5)得到的所述氮化铝生坯的容器中通入氧气或空气氛中,加热,排除所述氮化铝生坯中的所述溶剂、所述分散剂、所述粘结剂、所述塑性剂和所述脱泡剂,得到氮化铝坯体;

7)烧结:将步骤6)得到的所述氮化铝坯体烧结,即得到氮化铝陶瓷。

上述的制备方法中,所述球磨使用的研磨球与所述固体粉末的质量比为1~4:1,具体可为3:1;

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